講演名 2004/8/13
低消費電力65nm-node向け高性能・高信頼性Poly-Si/a-Si/HfSiON構造トランジスタ技術(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
安田 有里, 君塚 直彦, 岩本 敏幸, 藤枝 信次, 小倉 卓, 辰巳 徹, 山本 一郎, 渡辺 啓仁, 山縣 保司, 今井 清隆,
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抄録(和) 低消費電力65nm-node向けに高いIon/Istandby比を有するpoly-Si/a-Si/HfSiON構造トランジスタ技術を開発した。チャネル及びhalo注入条件の最適化により、Vdd=1.2VでIon=520uA及びIstandby=17pAという現在までの報告の中で最も高いIon/Istandby比を実現した。また、HfSiONの信頼性を大幅に改善する技術として、HfSiONとポリシリコン電極の間に、薄いアモルファスシリコン層を導入する技術を提案する。これにより、HfSiONの信頼性で大きな課題となっているPBTI寿命を2桁改善することに成功した。
抄録(英) We have newly developed poly-Si/a-Si/HfSiON (EOT=1.6nm) transistor that features high I_-I_ ratio and reliability for 65nm-node LSTP (Low Standby Power) application. By carefully optimizing halo implant condition, excellent I_-I_(=I_g+I_) characteristics of I_=520μA/I_=17pA (I_g=1.6pA, I_=15pA) at V_
=1.2V are obtained, which is the highest ratio ever reported. In addition, we have newly introduced thin amorphous-Si layer between HfSiON and poly-Si gate-electrode for reliability enhancement, and confirmed that PBTI (positive bias temperature instability) lifetime improves by two orders of magnitude with no performance degradation.
キーワード(和) HfSiON / GIDL / Ion/Istandby比 / アモルファスシリコン / PBTI
キーワード(英) HfSiON / GIDL / Ion/Istandby ratio / amorphous silicon / PBTI
資料番号 SDM2004-150,ICD2004-92
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2004/8/13(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 低消費電力65nm-node向け高性能・高信頼性Poly-Si/a-Si/HfSiON構造トランジスタ技術(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
サブタイトル(和)
タイトル(英) A 65nm-node LSTP(LOW Standby Power) Poly-Si/a-Si/HfSiON Transistor with High Ion-Istandby Ratio and Reliability
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) HfSiON / HfSiON
キーワード(2)(和/英) GIDL / GIDL
キーワード(3)(和/英) Ion/Istandby比 / Ion/Istandby ratio
キーワード(4)(和/英) アモルファスシリコン / amorphous silicon
キーワード(5)(和/英) PBTI / PBTI
第 1 著者 氏名(和/英) 安田 有里 / Y. Yasuda
第 1 著者 所属(和/英) NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
Advanced Technology Development Division, NEC Electronics Corporation
第 2 著者 氏名(和/英) 君塚 直彦 / N. Kimizuka
第 2 著者 所属(和/英) NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
Advanced Technology Development Division, NEC Electronics Corporation
第 3 著者 氏名(和/英) 岩本 敏幸 / T. Iwamoto
第 3 著者 所属(和/英) NEC、システムデバイス研究所
System Devices Research Laboratories, NEC Corporation
第 4 著者 氏名(和/英) 藤枝 信次 / S. Fujieda
第 4 著者 所属(和/英) NEC、システムデバイス研究所
System Devices Research Laboratories, NEC Corporation
第 5 著者 氏名(和/英) 小倉 卓 / T. Ogura
第 5 著者 所属(和/英) NEC、システムデバイス研究所
System Devices Research Laboratories, NEC Corporation
第 6 著者 氏名(和/英) 辰巳 徹 / T. Tatsumi
第 6 著者 所属(和/英) NEC、システムデバイス研究所
System Devices Research Laboratories, NEC Corporation
第 7 著者 氏名(和/英) 山本 一郎 / I. Yamamoto
第 7 著者 所属(和/英) NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
Advanced Technology Development Division, NEC Electronics Corporation
第 8 著者 氏名(和/英) 渡辺 啓仁 / H. Watanabe
第 8 著者 所属(和/英) NEC、システムデバイス研究所
System Devices Research Laboratories, NEC Corporation
第 9 著者 氏名(和/英) 山縣 保司 / Y. Yamagata
第 9 著者 所属(和/英) NECエレクトロニクス、先端デバイス開発事業部
Advanced Technology Development Division, NEC Electronics Corporation
第 10 著者 氏名(和/英) 今井 清隆 / K. Imai
第 10 著者 所属(和/英) NEC、システムデバイス研究所
System Devices Research Laboratories, NEC Corporation
発表年月日 2004/8/13
資料番号 SDM2004-150,ICD2004-92
巻番号(vol) vol.104
号番号(no) 251
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日