講演名 2004/8/13
低消費電力対応65nmノードCMOSプロセス : LOP対応極浅接合技術、LSTP対応HfSiONトランジスタ技術(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
大塚 文雄, 峰地 輝, 田村 泰之, 佐々木 隆興, 小崎 浩司, 安平 光雄, 有門 経敏,
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抄録(和)
抄録(英) Flash lamp annealing increases the drivability of the pFETs with the shallow extension fabricated by SPE growth without deteriorating Vth roll-off. A high switching speed suitable for 65nm-node LOP has been obtained at the gate length of 35nm by using SPE+FLA activation process. For LSTP devices, HfSiON transistors with EOT=1.5nm have been developed. Fermi-Level Pinning was improved by depositing thin SiN'cap on HfSiON. Tolerable NBTI/PBTI lifetime has been obtained at 1.1V supply voltage.
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 SDM2004-149,ICD2004-91
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2004/8/13(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 低消費電力対応65nmノードCMOSプロセス : LOP対応極浅接合技術、LSTP対応HfSiONトランジスタ技術(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
サブタイトル(和)
タイトル(英) 65nm-node CMOS Process for Low Power Devices : LOP Specific Ultra-Shallow Junction Technology, and LSTP Specific HfSiON Transistor Technology
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 大塚 文雄 / Fumio OOTSUKA
第 1 著者 所属(和/英) 半導体先端テクノロジーズ(Selete)第一研究部
Research Dept. 1, Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.(Selete)
第 2 著者 氏名(和/英) 峰地 輝 / Akira MINEJI
第 2 著者 所属(和/英) 半導体先端テクノロジーズ(Selete)第一研究部
Research Dept. 1, Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.(Selete)
第 3 著者 氏名(和/英) 田村 泰之 / Yasuyuki TAMURA
第 3 著者 所属(和/英) 半導体先端テクノロジーズ(Selete)第一研究部
Research Dept. 1, Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.(Selete)
第 4 著者 氏名(和/英) 佐々木 隆興 / Takaoki SASAKI
第 4 著者 所属(和/英) 半導体先端テクノロジーズ(Selete)第一研究部
Research Dept. 1, Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.(Selete)
第 5 著者 氏名(和/英) 小崎 浩司 / Hiroji OZAKI
第 5 著者 所属(和/英) 半導体先端テクノロジーズ(Selete)第一研究部
Research Dept. 1, Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.(Selete)
第 6 著者 氏名(和/英) 安平 光雄 / Mitsuo YASUHIRA
第 6 著者 所属(和/英) 半導体先端テクノロジーズ(Selete)第一研究部
Research Dept. 1, Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.(Selete)
第 7 著者 氏名(和/英) 有門 経敏 / Tsunetoshi ARIKADO
第 7 著者 所属(和/英) 半導体先端テクノロジーズ(Selete)第一研究部
Research Dept. 1, Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.(Selete)
発表年月日 2004/8/13
資料番号 SDM2004-149,ICD2004-91
巻番号(vol) vol.104
号番号(no) 251
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日