講演名 | 2004/8/13 基板電圧印加時の信頼性を考慮した65nmCMOSFETのパワーマネージメント(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力)) 東郷 光洋, 深井 利憲, 中原 寧, 小山 晋, 真壁 昌里子, 長谷川 英司, 永瀬 正俊, 松田 友子, 坂本 圭司, 藤原 秀二, 後藤 啓郎, 山本 豊二, 最上 徹, 山縣 保司, 今井 清隆, |
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抄録(和) | 電源電圧(V_ |
抄録(英) | We have developed a power-aware CMOS technology featuring variable V_ |
キーワード(和) | 電源電圧 / 基板電圧 / 低消費電力 / CMOSFET / NBTI / ホットホール注入 |
キーワード(英) | Supply voltage / Back bias / Low power consumption / CMOSFET / NBTI / Hot hole injection |
資料番号 | SDM2004-146,ICD2004-88 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | ICD |
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開催期間 | 2004/8/13(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 基板電圧印加時の信頼性を考慮した65nmCMOSFETのパワーマネージメント(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力)) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Power-aware 65nm Node CMOS Technology Using Variable V_ |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 電源電圧 / Supply voltage |
キーワード(2)(和/英) | 基板電圧 / Back bias |
キーワード(3)(和/英) | 低消費電力 / Low power consumption |
キーワード(4)(和/英) | CMOSFET / CMOSFET |
キーワード(5)(和/英) | NBTI / NBTI |
キーワード(6)(和/英) | ホットホール注入 / Hot hole injection |
第 1 著者 氏名(和/英) | 東郷 光洋 / M. Togo |
第 1 著者 所属(和/英) | NECシステムデバイス研究所 System Devices Research Labs., NEC Corporation |
第 2 著者 氏名(和/英) | 深井 利憲 / T. Fukai |
第 2 著者 所属(和/英) | NECシステムデバイス研究所 System Devices Research Labs., NEC Corporation |
第 3 著者 氏名(和/英) | 中原 寧 / Y. Nakahara |
第 3 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部 Advanced Device Development Division, NEC Electronics Corporation |
第 4 著者 氏名(和/英) | 小山 晋 / S. Koyama |
第 4 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクスプロセス技術事業部 Process Technology Division, NEC Electronics Corporation |
第 5 著者 氏名(和/英) | 真壁 昌里子 / M. Makabe |
第 5 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクスプロセス技術事業部 Process Technology Division, NEC Electronics Corporation |
第 6 著者 氏名(和/英) | 長谷川 英司 / E. Hasegawa |
第 6 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクスプロセス技術事業部 Process Technology Division, NEC Electronics Corporation |
第 7 著者 氏名(和/英) | 永瀬 正俊 / M. Nagase |
第 7 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクスプロセス技術事業部 Process Technology Division, NEC Electronics Corporation |
第 8 著者 氏名(和/英) | 松田 友子 / T. Matsuda |
第 8 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクスプロセス技術事業部 Process Technology Division, NEC Electronics Corporation |
第 9 著者 氏名(和/英) | 坂本 圭司 / K. Sakamoto |
第 9 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクスプロセス技術事業部 Process Technology Division, NEC Electronics Corporation |
第 10 著者 氏名(和/英) | 藤原 秀二 / S. Fujiwara |
第 10 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクスプロセス技術事業部 Process Technology Division, NEC Electronics Corporation |
第 11 著者 氏名(和/英) | 後藤 啓郎 / Y. Goto |
第 11 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部 Advanced Device Development Division, NEC Electronics Corporation |
第 12 著者 氏名(和/英) | 山本 豊二 / T. Yamamoto |
第 12 著者 所属(和/英) | NECシステムデバイス研究所 System Devices Research Labs., NEC Corporation |
第 13 著者 氏名(和/英) | 最上 徹 / T. Mogami |
第 13 著者 所属(和/英) | NECシステムデバイス研究所 System Devices Research Labs., NEC Corporation |
第 14 著者 氏名(和/英) | 山縣 保司 / Y. Yamagata |
第 14 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部 Advanced Device Development Division, NEC Electronics Corporation |
第 15 著者 氏名(和/英) | 今井 清隆 / K. Imai |
第 15 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部 Advanced Device Development Division, NEC Electronics Corporation |
発表年月日 | 2004/8/13 |
資料番号 | SDM2004-146,ICD2004-88 |
巻番号(vol) | vol.104 |
号番号(no) | 251 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 5 |
発行日 |