講演名 2004/8/13
短チャネルlow-Fin FETの基板バイアス係数における角の効果(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
南雲 俊治, 平本 俊郎,
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抄録(和) low-Fin(tri-gate)FETにおいてFinの角の形状が基板バイアス係数γに及ぼす影響について、高濃度ドープチャネルとノンドープチャネルの両者に関して3次元デバイスシミュレーションを用いて調査した。しきい値電圧V_とγの挙動は、V_をオン特性とオフ特性のどちらから導出するかによって異なる。高濃度ドープlow-Finにおいて、オフ特性から求めたγ(γ_)は角の形状に強く依存し、また、角の尖ったデバイスにおいてはゲート長を短縮するにつれ角の効果によってγ_が上昇すること(γの逆短チャネル効果)が明らかになった。角の尖った高濃度ドープlow-Finではこのγの逆短チャネル効果のため、基板に負バイアスを印加することによりゲート長ばらつきに起因するオフ電流のばらつきを低減できる。一方、ノンドープのlow-Finでは角の形状に対する依存性は弱く、また短チャネル特性は高濃度ドープの場合と比べかなり劣化する。
抄録(英) Impact of Fin-corner shape on body factor γ of low-Fin (tri-gate) FET in the both cases of highly-doped channel and undoped channel has been investigated by means of three-dimensional device simulation. Behavior of both threshold voltage (V_) and γ depends on whether V_ is derived from on-state or off-state. In highly-doped low-Fin, γ derived from off-state characteristics (γ_) are strongly affected by corner shape, and increase in γ_ with reducing gate length (reverse short channel of γ) due to corner effect has been found in sharp corner device. Variation of off-current due to gate length fluctuation can be suppressed by applying negative substrate bias thanks to the reverse short channel effect of γ in highly-doped low-Fin with sharp corner. On the other hand, in undoped low-Fin, corner shape dependence is very weak and short channel characteristics become considerably worse than highly-doped case.
キーワード(和) FinFET / 基板バイアス効果 / 基板バイアス係数 / VTCMOS(しきい値電圧可変CMOS) / corner effect
キーワード(英) FinFET / body effect / body factor / VTCMOS(variable threshold voltage CMOS) / corner effect
資料番号 SDM2004-145,ICD2004-87
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2004/8/13(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 短チャネルlow-Fin FETの基板バイアス係数における角の効果(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
サブタイトル(和)
タイトル(英) Corner Effect on body factor of short channel low-Fin FETs
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) FinFET / FinFET
キーワード(2)(和/英) 基板バイアス効果 / body effect
キーワード(3)(和/英) 基板バイアス係数 / body factor
キーワード(4)(和/英) VTCMOS(しきい値電圧可変CMOS) / VTCMOS(variable threshold voltage CMOS)
キーワード(5)(和/英) corner effect / corner effect
第 1 著者 氏名(和/英) 南雲 俊治 / Toshiharu NAGUMO
第 1 著者 所属(和/英) 東京大学生産技術研究所
Institute of Industrial Science, University of Tokyo
第 2 著者 氏名(和/英) 平本 俊郎 / Toshiro HIRAMOTO
第 2 著者 所属(和/英) 東京大学生産技術研究所
Institute of Industrial Science, University of Tokyo
発表年月日 2004/8/13
資料番号 SDM2004-145,ICD2004-87
巻番号(vol) vol.104
号番号(no) 251
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日