講演名 | 2004/8/13 短チャネルlow-Fin FETの基板バイアス係数における角の効果(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力)) 南雲 俊治, 平本 俊郎, |
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抄録(和) | low-Fin(tri-gate)FETにおいてFinの角の形状が基板バイアス係数γに及ぼす影響について、高濃度ドープチャネルとノンドープチャネルの両者に関して3次元デバイスシミュレーションを用いて調査した。しきい値電圧V_ | とγの挙動は、V_ | をオン特性とオフ特性のどちらから導出するかによって異なる。高濃度ドープlow-Finにおいて、オフ特性から求めたγ(γ_ |
抄録(英) | Impact of Fin-corner shape on body factor γ of low-Fin (tri-gate) FET in the both cases of highly-doped channel and undoped channel has been investigated by means of three-dimensional device simulation. Behavior of both threshold voltage (V_ | ) and γ depends on whether V_ | is derived from on-state or off-state. In highly-doped low-Fin, γ derived from off-state characteristics (γ_ |
キーワード(和) | FinFET / 基板バイアス効果 / 基板バイアス係数 / VTCMOS(しきい値電圧可変CMOS) / corner effect | ||
キーワード(英) | FinFET / body effect / body factor / VTCMOS(variable threshold voltage CMOS) / corner effect | ||
資料番号 | SDM2004-145,ICD2004-87 | ||
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | ICD |
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開催期間 | 2004/8/13(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 短チャネルlow-Fin FETの基板バイアス係数における角の効果(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力)) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Corner Effect on body factor of short channel low-Fin FETs |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | FinFET / FinFET |
キーワード(2)(和/英) | 基板バイアス効果 / body effect |
キーワード(3)(和/英) | 基板バイアス係数 / body factor |
キーワード(4)(和/英) | VTCMOS(しきい値電圧可変CMOS) / VTCMOS(variable threshold voltage CMOS) |
キーワード(5)(和/英) | corner effect / corner effect |
第 1 著者 氏名(和/英) | 南雲 俊治 / Toshiharu NAGUMO |
第 1 著者 所属(和/英) | 東京大学生産技術研究所 Institute of Industrial Science, University of Tokyo |
第 2 著者 氏名(和/英) | 平本 俊郎 / Toshiro HIRAMOTO |
第 2 著者 所属(和/英) | 東京大学生産技術研究所 Institute of Industrial Science, University of Tokyo |
発表年月日 | 2004/8/13 |
資料番号 | SDM2004-145,ICD2004-87 |
巻番号(vol) | vol.104 |
号番号(no) | 251 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 5 |
発行日 |