| 講演名 | 1995/10/24 Deposition of Hydrogen-Free Diamond-Like Carbon Film and Its Application to Field Emission Devices , |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | Hydrogen-free Diamond-Like Carbon (DLC) films were deposited by layer-by-layer technique using plasma enhanced chemical vapor deposition, i.e., deposition of thin DLC layer and subsequent CF_4 plasma exposure on its surface alternatively. The hydrogen-free DLC film could be grown at 20O sec CF_4 plasma exposure on 5 nm DLC layer. The layer-by-layer deposited, hydrogen-free DLC film shows an efficient electron emission; the onset field emission was found to be 18 V/μm and a barrier energy for emission to be 0.06 eV. |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | Hydrogen-free DLC / Layer-by-layer deposition / Field Emission |
| 資料番号 | EID95-68 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID |
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| 開催期間 | 1995/10/24(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Deposition of Hydrogen-Free Diamond-Like Carbon Film and Its Application to Field Emission Devices |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | / Hydrogen-free DLC |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | / Kyu Chang Park |
| 第 1 著者 所属（和/英） | Department of physics Kyung Hee University |
| 発表年月日 | 1995/10/24 |
| 資料番号 | EID95-68 |
| 巻番号（vol） | vol.95 |
| 号番号（no） | 336 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |