| 講演名 | 2000/9/15 有機ポリシラン膜を用いた金属パターン形成(第3報) : 微細パターンの金属多層化の研究 田部井 栄一, 福島 基夫, 濱田 吉隆, 荒又 幹夫, |
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| 抄録(和) | ポリシランフィルムにパラジウム塩溶液を接触させると、ポリシランの還元力によりパラジウムコロイドが生成する。これを触媒として、無電解めっきを行うことにより金属ニッケルや金属銅をポリシランフィルム上に生成することが可能であり、マイクロスタンプ法を併用することにより1μmレベルの金属微細パターンを作成することに成功している。本研究は、実用化を目指して金属パターンの多層化について検討を行ったところ、ポリシランフィルムへの光照射が密着性に有効であることを見出したのでこれについて報告する。 |
| 抄録(英) | Palladium colloid was formed by the reductivity of polysilane, when a palladium salt solution was contacted to the polysilane film. It was possible to make metallic nickel and copper on the polysilane film by electroless deposition using palladium colloid as a catalyst. Metal pattern of 1 μm level can be made by using the micro stamp method in addition to slectroless deposition. In this study, it was found that UV-irradiation to polysilane film was effective for adhesion between metal and baseboard, which is very important toward practical application of multilayered metal patterning. |
| キーワード(和) | ポリシラン / 無電解メッキ / 金属パターン / 紫外線照射 |
| キーワード(英) | Polysilane / Electroless deposition / Metal patterning / UV-irradiation |
| 資料番号 | ED2000-157,OME2000-110 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
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| 開催期間 | 2000/9/15(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 有機ポリシラン膜を用いた金属パターン形成(第3報) : 微細パターンの金属多層化の研究 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Metal Patterning on Organopolysilane-Coated Films by Electroless Deposition Study of Multi-layered Metal Pattern. |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ポリシラン / Polysilane |
| キーワード(2)（和/英） | 無電解メッキ / Electroless deposition |
| キーワード(3)（和/英） | 金属パターン / Metal patterning |
| キーワード(4)（和/英） | 紫外線照射 / UV-irradiation |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 田部井 栄一 / Eiichi TABEI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所 Silicone-Electronics Materials Research Center, Shin-Etsu Chemical Co. , Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 福島 基夫 / Motoo FUKUSHIMA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所 Silicone-Electronics Materials Research Center, Shin-Etsu Chemical Co. , Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 濱田 吉隆 / Yoshitaka HAMADA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所 Silicone-Electronics Materials Research Center, Shin-Etsu Chemical Co. , Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 荒又 幹夫 / Mikio ARAMATA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 信越化学工業(株)シリコーン電子材料技術研究所 Silicone-Electronics Materials Research Center, Shin-Etsu Chemical Co. , Ltd. |
| 発表年月日 | 2000/9/15 |
| 資料番号 | ED2000-157,OME2000-110 |
| 巻番号（vol） | vol.100 |
| 号番号（no） | 319 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |