| 講演名 | 2000/7/21 OME2000-42 パルス分子線を用いた有機エピタキシー素過程の探求 島田 敏宏, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | パルス分子線を用いて有機分子の真空蒸着における膜形成素過程の研究を行っている。水素フタロシアニンを様々な基板表面に照射し、反射時間プロファイルを測定した結果、低い基板温度においては秒単位の滞在時間を持つことがわかった。アレニウスプロットは直線にのり、表面・分子相互作用を決める特徴的なエネルギーが求められた。また、パルス分子線により成長したキナクリドン薄膜を原子間力顕微鏡で観察した結果、パルス幅に対して核形成密度に極小があらわれることが分かった。理論的解析を行い、分子2個が衝突することによる脱離過程がこの原因であることを明らかにした。 |
| 抄録(英) | We are studying elementary processes of organic epitaxial growth by using pulsed molecular beam technique. First, hydrogen phthalocyanine beam was irradiated onto various inorganic surfaces and the time profile of desorbing molecules were measured. The surface residence time was found to be as long as seconds. Arrhenius type plots were well fit by lines, from which characteristic energies of molecule-surface interaction were determined. Second, thin film growth by pulsed molecular beam of quinacridone was studied using atomic force microscopy. Observed minimum in the nucleation density as a function of pulse width was explained by a model assuming desorption induced by intermo-lecular collision on the surface. |
| キーワード(和) | パルス分子線 / 真空蒸着 / 素過程 / 核形成 / 分子衝突 |
| キーワード(英) | pulsed molecular beam / vacuum deposition / elementary processes / nucleation / molecular collision |
| 資料番号 | OME2000-42 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
|---|---|
| 開催期間 | 2000/7/21(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | OME2000-42 パルス分子線を用いた有機エピタキシー素過程の探求 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Elementary processes of organic epitaxial growth studied by pulsed molecular beam technique |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | パルス分子線 / pulsed molecular beam |
| キーワード(2)（和/英） | 真空蒸着 / vacuum deposition |
| キーワード(3)（和/英） | 素過程 / elementary processes |
| キーワード(4)（和/英） | 核形成 / nucleation |
| キーワード(5)（和/英） | 分子衝突 / molecular collision |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 島田 敏宏 / Toshihiro Shimada |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京大学大学院理学系研究科化学専攻 Department of Chemistry, The University of Tokyo |
| 発表年月日 | 2000/7/21 |
| 資料番号 | OME2000-42 |
| 巻番号（vol） | vol.100 |
| 号番号（no） | 245 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |