講演名 1999/7/14
TPDを有するビニルモノマーの薄膜重合とEL素子への応用
越川 博, 玉田 正男, 諏訪 武, 吉岡 照文, 臼井 博明, 佐藤 壽彌,
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抄録(和) トリフェニルジアミン誘導体(TPD-Ac)をITO基板上に蒸着し、FTRI-RASその場観察を行ないながら、紫外線(UV)を照射して重合薄膜を作製した。耐熱性についてモノマー薄膜と比較すると、370Kでモノマー薄膜に凹凸が生じたのに対してUV重合膜では380Kでも表面平滑性を保持していた。さらに、UV照射後に熱を加えることで420Kまでの表面形状が平坦な薄膜を作成した。このUV+熱重合膜からEL素子を作成したことろ、モノマー薄膜の3倍の発光効果が得られた。
抄録(英) Triphenyldiaminemethylacrylate(TPD-Ac) thin films were prepared by physical vapor deposition onto an indium-tin oxide substrate, followed by polymerization on UV irradiation in vacuum. The conversions of the polymerization were monitored with in-situ FTIR-RAS. The surface of the monomer films became rough after annealing at 370 K. The film surface polymerized on UV irradiation was even after annealing at 380 K. The combination of UV irradiation and annealing at 400 K enhance the surface stability until 420 K. EL devices were fubricated from TPD-Ac using the combination method. The luminecent intensity of the devices showed three times larger than that of the monomer film.
キーワード(和) TPD / 紫外線重合 / 薄膜
キーワード(英) TPD / thin film / UV polymerization
資料番号 OME99-57
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 1999/7/14(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) TPDを有するビニルモノマーの薄膜重合とEL素子への応用
サブタイトル(和)
タイトル(英) Thin film polymerization of acrylate having TPD as side group and its application to EL device
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) TPD / TPD
キーワード(2)(和/英) 紫外線重合 / thin film
キーワード(3)(和/英) 薄膜 / UV polymerization
第 1 著者 氏名(和/英) 越川 博 / H. Koshikawa
第 1 著者 所属(和/英) 日本原子力研究所高崎研究所材料開発部高機能材料第1研究室
Takasaki Radiation Chemistry Research Establishment, Japan Atomic Energy Research Institute
第 2 著者 氏名(和/英) 玉田 正男 / M. Tamada
第 2 著者 所属(和/英) 日本原子力研究所高崎研究所材料開発部高機能材料第1研究室
Takasaki Radiation Chemistry Research Establishment, Japan Atomic Energy Research Institute
第 3 著者 氏名(和/英) 諏訪 武 / T. Suwa
第 3 著者 所属(和/英) 日本原子力研究所高崎研究所材料開発部高機能材料第1研究室
Takasaki Radiation Chemistry Research Establishment, Japan Atomic Energy Research Institute
第 4 著者 氏名(和/英) 吉岡 照文 / T. Yoshioka
第 4 著者 所属(和/英) 東京農工大学工学部応用化学科
Tokyo Univ. A&T.
第 5 著者 氏名(和/英) 臼井 博明 / H. Usui
第 5 著者 所属(和/英) 東京農工大学工学部応用化学科
Tokyo Univ. A&T.
第 6 著者 氏名(和/英) 佐藤 壽彌 / H. Sato
第 6 著者 所属(和/英) 東京農工大学工学部応用化学科
Tokyo Univ. A&T.
発表年月日 1999/7/14
資料番号 OME99-57
巻番号(vol) vol.99
号番号(no) 174
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日