| 講演名 | 1999/7/9 リニア型高速熱処理法による薄膜配向性の制御 土屋 直人, 中川 恭彦, |
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| 抄録(和) | 本研究では, 一軸配向性Ta_2O_5薄膜の結晶性向上を目的とし, 新しいリニア型高速熱処理法を提案した. その結果, 等方性の石英ガラス基板上において, 面内に高い配向性をもったTa_2O_5薄膜を作製できた. またX-Cut・LiTaO_3基板を用いた場合, 格子整合のとれた単結晶薄膜を得ることができた. これによりRHEEDパターンからX-Cut・LiTaO_3基板上のTa_2O_5薄膜の構造を決定した. |
| 抄録(英) | A purpose of this investigation is deposition of highly crystallized Ta_2O_5 thin film. We proposed Linear Rapid Thermal Annealing for the achievement. As a result a case of isotropic glass substrate we could make a Ta_2O_5 film of high orientation. When we used an X-Cut・LiTaO_3 substrate, we could make the single crystal film which lattice coordination could catch. And we decided of Ta_2O_5 film structure on X-Cut・LiTaO_3 substrate from RHEED pattern. |
| キーワード(和) | リニア型高速熱処理法 / 単結晶薄膜 / Ta_2O_5薄膜 / X-Cut・LiTaO_3 |
| キーワード(英) | Linear Rapid Thermal Annealing / single crystal film / Ta_2O_5 thin film / X-Cut・LiTaO_3 |
| 資料番号 | OME99-50 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
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| 開催期間 | 1999/7/9(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | リニア型高速熱処理法による薄膜配向性の制御 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Control of oriented thin film by linear rapid thermal annealing |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | リニア型高速熱処理法 / Linear Rapid Thermal Annealing |
| キーワード(2)（和/英） | 単結晶薄膜 / single crystal film |
| キーワード(3)（和/英） | Ta_2O_5薄膜 / Ta_2O_5 thin film |
| キーワード(4)（和/英） | X-Cut・LiTaO_3 / X-Cut・LiTaO_3 |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 土屋 直人 / N. Tsuchiya |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山梨大学工学部 Faculty of Engineering, Yamanashi University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 中川 恭彦 / Y. Nakagawa |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山梨大学工学部 Faculty of Engineering, Yamanashi University |
| 発表年月日 | 1999/7/9 |
| 資料番号 | OME99-50 |
| 巻番号（vol） | vol.99 |
| 号番号（no） | 170 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |