| 講演名 | 1998/5/29 ガス中蒸着法による銅フタロシアニン薄膜の作製 臼井 博明, 宮林 寛, 田中 邦明, 玉田 正男, 越川 博, 細井 文雄, 諏訪 武, |
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| 抄録(和) | 様々なAr, He, およびN_2ガス圧下でα型銅フタロシアニン(CuPc)を蒸発して超微粒子化させ基板に蒸着させるガス中蒸着法による薄膜の作製を行い、得られた膜のモルフォロジーを走査型顕微鏡で、結晶性をX線回折を用いて評価した。高い導入ガス圧下で蒸着した膜は粒子が繊維状に凝集したモルフォロジー呈し、α型とは異なる新たなX線回折ピークを示した。また、Vis-UVスペクトルやIRスペクトルから結晶型がα型からε型に転移する可能性が示された。常温、大気圧下におけるガス蒸着膜の電気的特性を評価した結果、ガス中蒸着膜の導電率は導入ガス圧の増加と共に向上した。また、蒸着膜において電流-電圧測定時に現れるヒステリシス挙動や抵抗率変化などの特性は、蒸着時の導入ガス圧によって変化した。 |
| 抄録(英) | Thin films of copper phthalocyanine(CuPc)have been deposited by gas-evaporation method under various kinds of gas and pressure. The morphology, crystallinity and electric property of these films were investigated. The film that was deposited under higher gas pressure had a fiber structure. X-ray diffraction pattern of these films had new peaks which were not observed in α-phase CuPc powder. Vis-UV and FT-IR spectra suggested crystallographic transformation from α-phase to another phase. The electric conductivity of gas-evaporated film increased with increasing gas pressure. The conductivity also showed a time dependence, which resulted in hysteresis curve of I-V characteristics. |
| キーワード(和) | 銅フタロシアニン / ガス中蒸着 / 超微粒子 / 結晶多型 / 導電率 |
| キーワード(英) | copper phthalocyanine / gas-evaporation / ultrafine particle / polymorph / conductivity |
| 資料番号 | |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
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| 開催期間 | 1998/5/29(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ガス中蒸着法による銅フタロシアニン薄膜の作製 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of copper-phthalocyanine films by gas-evaporation method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 銅フタロシアニン / copper phthalocyanine |
| キーワード(2)（和/英） | ガス中蒸着 / gas-evaporation |
| キーワード(3)（和/英） | 超微粒子 / ultrafine particle |
| キーワード(4)（和/英） | 結晶多型 / polymorph |
| キーワード(5)（和/英） | 導電率 / conductivity |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 臼井 博明 / Hiroaki Usui |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京農工大学工学部 Tokyo Univ.A & T |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 宮林 寛 / Hiroshi Miyabayashi |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京農工大学工学部 Tokyo Univ.A & T |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 田中 邦明 / Kuniaki Tanaka |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京農工大学工学部 Tokyo Univ.A & T |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 玉田 正男 / Masao Tamada |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 原研高崎 JAERI-Takasaki |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 越川 博 / Hiroshi Koshikawa |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 原研高崎 JAERI-Takasaki |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 細井 文雄 / Fumio Hosoi |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 原研高崎 JAERI-Takasaki |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 諏訪 武 / Takeshi Suwa |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 原研高崎 JAERI-Takasaki |
| 発表年月日 | 1998/5/29 |
| 資料番号 | |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 92 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |