| 講演名 | 1998/5/6 ポリシランの構造制御(1)PDMSの真空蒸着機構とその膜の構造 荒又 幹夫, 福島 基夫, 森 滋, 古川 昌司, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | ポリシランは次世代の機能性高分子として期待されているが、これは主鎖であるSi-Si結合のσ電子が非局在化したσ共役高分子であることによる。従って、その機能化においてはその主鎖骨格の構造制御が大きなポイントである。このような観点より、我々は、溶剤に不溶性であるジメチルポリシランPDMSの真空蒸着機構を解明し、併せて加圧等機械的な方法による構造制御の可能性について、ケイ光分析、X線構造回折法等からのアプローチにより検討した結果を報告する。 |
| 抄録(英) | Organosilicon polymers have attracted much attention for their potential applications as functional polymers, because of their unique electric and photoelectronic properties, which have been attributed to the delocalization of σ-electrons along Si main chain. Therefore, it is important to control the conformation of polysilanes for working as functional polymers. We have already found to be able to prepare the highly oriented ultra thin film of poly(di-methylsilane)(PDMS) by vacuum evaporation method. This paper describes the mechanism of the formation of evaporated PDMS film in vacuum and the examination result of these thin oriented films by various methods. |
| キーワード(和) | ポリジメチルシラン / 蒸着膜 / 配向膜 / 摩擦転写膜 / X線回折 / 分解機構 |
| キーワード(英) | Poly(di-methylsilane) / Evaporated film / Oriented film / Friction-transfer / X-ray diffraction / Thermal decomposition |
| 資料番号 | |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
|---|---|
| 開催期間 | 1998/5/6(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ポリシランの構造制御(1)PDMSの真空蒸着機構とその膜の構造 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Conformational control of polysilane (1):The mechanism of the evaporated film formation of poly(di-methylsilane) and its structure |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ポリジメチルシラン / Poly(di-methylsilane) |
| キーワード(2)（和/英） | 蒸着膜 / Evaporated film |
| キーワード(3)（和/英） | 配向膜 / Oriented film |
| キーワード(4)（和/英） | 摩擦転写膜 / Friction-transfer |
| キーワード(5)（和/英） | X線回折 / X-ray diffraction |
| キーワード(6)（和/英） | 分解機構 / Thermal decomposition |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 荒又 幹夫 / Mikio ARAMATA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 信越科学工業(株)シリコーン・電子材料技術研究所 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.Silicone-Electronics Materials Research Center |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 福島 基夫 / Motoo FUKUSHIMA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 信越科学工業(株)シリコーン・電子材料技術研究所 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.Silicone-Electronics Materials Research Center |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 森 滋 / Shigeru MORI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 信越科学工業(株)シリコーン・電子材料技術研究所 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.Silicone-Electronics Materials Research Center |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 古川 昌司 / Shoji FURUKAWA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 九州工業大学情報工学部 Faculty of Computer Scienceand Systems Engineering, Kyushu Institute of Technology |
| 発表年月日 | 1998/5/6 |
| 資料番号 | |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 38 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |