| 講演名 | 1994/10/28 フォトポリマーの素反応とその応用 小関 健一, |
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| 抄録(和) | フォトポリマーは、光照射により溶解性や光学的な特性など材料の物性が大きく変化する材料で、印刷、超LSIなどの微細加工、プリント回路形成、UV硬化塗料、ホログラム記録など、広い分野において実用化されている。そこにおいて利用されている光反応としては、シンナモイル基などの光二量化、ビスアジド化合物と環化ゴムとの反応などの光架橋反応、ナフトキノンジアジド化合物のインデンカルボン酸への光変性、光酸発生を利用した化学増幅反応、さらに光ラジカル重合、カチオン重合、解重合反応などがある。それらの基本的な反応とフォトポリマー材料への応用について述べる。 |
| 抄録(英) | Photopolymer is a photosensitive material thatis commonly used for image formation in the field of printing,photolithography, photofabrication,hologram recording,etc.Photopolymer materials are systems undergoing chemical modification such as photocrosslinking, photopolymerization and phototransformation reactionswhen irradiated with an energy source.The polymer may crosslink or suffer chain scission or transformation of functional group, resulting in appreciably decreased or increased dissolution rate in subsequent development.Fundamental reactions of photopolymer and applicationto imaging materials are described. |
| キーワード(和) | フォトポリマー / 光架橋 / 光重合 / 光変性 / 画像記録材料 |
| キーワード(英) | photopolymer / photo crosslinking reaction / photopolymerization / photo chemical reaction / imaging material |
| 資料番号 | OME94-54 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
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| 開催期間 | 1994/10/28(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | フォトポリマーの素反応とその応用 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fundamental reactions of photopolymer and application to imaging material |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | フォトポリマー / photopolymer |
| キーワード(2)（和/英） | 光架橋 / photo crosslinking reaction |
| キーワード(3)（和/英） | 光重合 / photopolymerization |
| キーワード(4)（和/英） | 光変性 / photo chemical reaction |
| キーワード(5)（和/英） | 画像記録材料 / imaging material |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 小関 健一 / Kenichi Koseki |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 千葉大学工学部画像工学科 Department of Image Science,Faculty of Engineering,Chiba University |
| 発表年月日 | 1994/10/28 |
| 資料番号 | OME94-54 |
| 巻番号（vol） | vol.94 |
| 号番号（no） | 319 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 7 |
| 発行日 | |