講演名 1995/10/20
高密度光ディスクプロセス
飯田 哲哉, 樋口 隆信, 横関 伸一,
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抄録(和) 従来より光ディスクプロセスには半導体プロセスと同様、フォトレジストを使ったリソグラフィ手法か用いられてきた。これらふたつのプロセスの間には共通点もあるが異なる点も多くみられ、プロセス材料、装置に求められる特性は大きく異なるものとなっている。そのため、半導体集積回路の製造工程で用いられている高密度化技術かそのまま高密度光ディスクプロセスに適用できるわけではない。本稿では高密度光ディスクプロセスを進めるにあたり、半導体プロセスとの相違点を明確にしつつ用いられる材料および装置に必要とされる諸特性について考察する。
抄録(英) There are many different aspects in the semiconductor manufacturing process compared with that of the optical disc. The specific characteristics required to develop high density optical disk process shall be discussed while referring to the difference in the semiconductor process.
キーワード(和) 光ディスク / フォトレジスト / 感度特性 / ABCパラメータ / LBR / CN比
キーワード(英) Optical disc / photoresist / ABC parameters / Laser Beam Recorder / Carrier to Noise Ratio
資料番号 OME95-44
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 1995/10/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 高密度光ディスクプロセス
サブタイトル(和)
タイトル(英) High Recording Density Optical Disc Mastering
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 光ディスク / Optical disc
キーワード(2)(和/英) フォトレジスト / photoresist
キーワード(3)(和/英) 感度特性 / ABC parameters
キーワード(4)(和/英) ABCパラメータ / Laser Beam Recorder
キーワード(5)(和/英) LBR / Carrier to Noise Ratio
キーワード(6)(和/英) CN比
第 1 著者 氏名(和/英) 飯田 哲哉 / Tetsuya IIDA
第 1 著者 所属(和/英) パイオニア株式会社 研究開発本部 総合研究所
Corporate Reseach and Development Laboratory, Pioneer Electronic Corporation
第 2 著者 氏名(和/英) 樋口 隆信 / Takanobu HIGUCHI
第 2 著者 所属(和/英) パイオニア株式会社 研究開発本部 総合研究所
Corporate Reseach and Development Laboratory, Pioneer Electronic Corporation
第 3 著者 氏名(和/英) 横関 伸一 / Shinichi YOKOZEKI
第 3 著者 所属(和/英) パイオニア株式会社 研究開発本部 総合研究所
Corporate Reseach and Development Laboratory, Pioneer Electronic Corporation
発表年月日 1995/10/20
資料番号 OME95-44
巻番号(vol) vol.95
号番号(no) 333
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日