| 講演名 | 1995/10/20 感光性材料を用いた厚膜サーマルヘッドの微細加工技術 馬場 和夫, 有沢 宏, 山口 義紀, |
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| 抄録(和) | 厚膜サーマルヘッドの高密度化および高画質化をねらいとして、発熱抵抗体を任意の形状に精度よく形成する微細加工技術、厚膜リフトオフ法を開発した。この技術は、感光性レジストを用いて開口部を形成し、その開口部に厚膜抵抗体ペーストを埋めこみ、抵抗体ぺーストの不要部分をマイクロラッピングすることにより高密度・高精度の抵抗体素子を形成するものである。本方法により、600dpi(=dot/25.4mm)の高解像度発熱抵抗体および20μmの細幅抵抗体など各種形状の抵抗体素子の形成が可能であることが確認された。この厚膜リフトオフ法のプロセス技術とともに、各種サーマルヘッドの特性、特に階調を含めた印字品質について概説的にまとめた。 |
| 抄録(英) | A fine microfabrication technique has been developped to raise the performance of thick film thermal print head. This technique consists of four steps; coating and patterning the photosensitive resist, screen-printing thick film resistor paste into open area of the photo-resist pattern, lapping the resistor paste remaining outside of the open area, and firing the resistor paste. The technique enableshighly precise formation of a thick film resistor element with an arbitary shape. By the technique,Rectangular discrete type heat resistors with the resolution from 200dpi( = dot/25.4mm) to 600dpi and belt type heat resistor with 20μm width were fabricated and excellent print qualities were obtained for direct thermal printing and thermal transfer printing for half tone reproduction. |
| キーワード(和) | 感光性レジスト / サーマルヘッド / 厚膜抵抗体 / リフトオフ法 / 面積階調 |
| キーワード(英) | photosensitive resist / thermal print head / thick film resistor / lift -off method / area gradation |
| 資料番号 | OME95-43 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
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| 開催期間 | 1995/10/20(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 感光性材料を用いた厚膜サーマルヘッドの微細加工技術 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Microfabrication Technique for Thick- film Thermal Print Head by use of Photo-sensitive Material |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 感光性レジスト / photosensitive resist |
| キーワード(2)（和/英） | サーマルヘッド / thermal print head |
| キーワード(3)（和/英） | 厚膜抵抗体 / thick film resistor |
| キーワード(4)（和/英） | リフトオフ法 / lift -off method |
| キーワード(5)（和/英） | 面積階調 / area gradation |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 馬場 和夫 / Kazuo Baba |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 富士ゼロックス株式会社 電子技術研究所 Electronic Imaging & Devices Laboratory, Fuji Xerox Co., Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 有沢 宏 / Hiroshi Arisawa |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 富士ゼロックス株式会社 電子技術研究所 Electronic Imaging & Devices Laboratory, Fuji Xerox Co., Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 山口 義紀 / Yoshinori Yamaguchi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 富士ゼロックス株式会社 電子技術研究所 Electronic Imaging & Devices Laboratory, Fuji Xerox Co., Ltd. |
| 発表年月日 | 1995/10/20 |
| 資料番号 | OME95-43 |
| 巻番号（vol） | vol.95 |
| 号番号（no） | 333 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |