| 講演名 | 1996/7/5 分子線とエキシマレーザーからなる複合反応場でのビス(エチニルスチリル)ベンゼンの薄膜成長 渕上 宏幸, 中尾 之泰, 蔵田 哲之, 谷村 佐知子, 和田 理, 角田 誠, 新納 弘之, 矢部 明, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 我々は既に,分子線蒸着とフォトン場(KrFエキシマレーザー)を複合した反応場での有機薄膜作製法をビス(エチニルスチリル)ベンゼンに適用し,薄膜形成中のcis-to-trans光異性化反応により従来法では得られなかったトランス-トランス体の結晶性薄膜を作製している。今回,作製条件の詳細な検討により,上記複合反応場において堆積する異性体種がレーザー照射量に依存せずトランス-トランス体だけであることを明らかにした。このことは,基板上に一時的に滞在しているシス-シス体のうちレーザーパルスによって光異性化反応した分子が,トランス-トランス体として逐次生成・堆積することを示している。従って,基板には実質的にトランス-トランス体だけが供給され.シス-シス体分子に阻害されずかつ分子運動や表面拡散が容易になることが結晶成長の一因であると考えられる。 |
| 抄録(英) | We applied a hybrid field by using a molecular beam and a photon field (excimer laser) to the film preparation of bis(ethynylstyryl)benzene. This new process yielded crystalline films of the trans-trans isomer as a result of cis-to-trans photo-isomerization during film growth at high substrate temperatures. In this study, it have been found that the deposited species of BESB isomer in the hybrid field was only trans-trans isomer for any dose of laser-irradiation. This indicates that the cis-cis isomer existed temporarily on the substrate surface was photo-isomerized and the generated trans-trans isomer deposited on it upon pulsed laser irradiation. Therefore, crystal growth of the trans-trans isomer is considered to proceed by the enhancement of the surface migration of the generated trans-trans isomer with no hindrance of the cis-cis isomer for its crystal growth. |
| キーワード(和) | ビス(エチニルスチリル)ベンゼン / 光異性化反応 / 分子線蒸着 / 有機薄膜 / 結晶成長 |
| キーワード(英) | bis(ethynylstyryl)benzene / photo-isomerization / molecular beam deposition / organic thin films / crystal growth |
| 資料番号 | OME96-30 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
|---|---|
| 開催期間 | 1996/7/5(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 分子線とエキシマレーザーからなる複合反応場でのビス(エチニルスチリル)ベンゼンの薄膜成長 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Film Growth of Bis(ethynylstyryl)benzene in a Hybrid Field by Using a Molecular Beam and an Excimer Laser |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ビス(エチニルスチリル)ベンゼン / bis(ethynylstyryl)benzene |
| キーワード(2)（和/英） | 光異性化反応 / photo-isomerization |
| キーワード(3)（和/英） | 分子線蒸着 / molecular beam deposition |
| キーワード(4)（和/英） | 有機薄膜 / organic thin films |
| キーワード(5)（和/英） | 結晶成長 / crystal growth |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 渕上 宏幸 / H. Fuchigami |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 三菱電機(株) Mitsubishi Electric Corp. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 中尾 之泰 / Y. Nakao |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 三菱電機(株) Mitsubishi Electric Corp. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 蔵田 哲之 / T. Kurata |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 三菱電機(株) Mitsubishi Electric Corp. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 谷村 佐知子 / S. Tanimura |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 三菱電機(株) Mitsubishi Electric Corp. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 和田 理 / O. Wada |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 三菱電機(株) Mitsubishi Electric Corp. |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 角田 誠 / S. Tsunoda |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 三菱電機(株) Mitsubishi Electric Corp. |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 新納 弘之 / H. Niino |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 物質工学工業技術研究所 National Institute of Materials and Chemical Research |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 矢部 明 / A. Yabe |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 物質工学工業技術研究所 National Institute of Materials and Chemical Research |
| 発表年月日 | 1996/7/5 |
| 資料番号 | OME96-30 |
| 巻番号（vol） | vol.96 |
| 号番号（no） | 143 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |