講演名 | 1996/7/5 銅フタロシアニン薄膜の蒸着時電圧印加による配向変化 藤井 泰宏, 川戸 伸一, 林 好一, 堀内 俊寿, 松重 和美, |
---|---|
PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
抄録(和) | 機能性有機薄膜の作製には、分子を意のままにに配列する技術が必要不可欠である。本研究では、KCl単結晶の(100)面に櫛形電極を作製し、電圧をかけながら銅フタロシアニンを蒸着して、分子配向の制御を試みた。全反射X線回折法により面内分子配向を評価した結果、通常のエピタキシャル成長とは異なる配向状態が確認された。 |
抄録(英) | In order to make functional organic thin films, it is necessary to establish the technique for controlling molecular arrangement. In this work, we changed an electric environment as a controlling factor; first we formed interdigitated gold electrodes on KCl(001) substrates, and then evaporated copper phthalocyanine (CuPc) on it with applying voltages. Using an energy dispersive total reflection in-plane X-ray diffractometer, we evaluated the in-plane structures in the films, revealing that the CuPc molecules orient in different directions from those of ordinal films epitaxially grown without applying voltages. |
キーワード(和) | 銅フタロシアニン / 塩化カリウム / 分子配向 / 真空蒸着 / 電圧印加 |
キーワード(英) | Copper phthalocyanine / Potassium chloride / Molecular orientation / Vapor deposition / Applying voltages |
資料番号 | OME96-28 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | OME |
---|---|
開催期間 | 1996/7/5(から1日開催) |
開催地(和) | |
開催地(英) | |
テーマ(和) | |
テーマ(英) | |
委員長氏名(和) | |
委員長氏名(英) | |
副委員長氏名(和) | |
副委員長氏名(英) | |
幹事氏名(和) | |
幹事氏名(英) | |
幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
---|---|
本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 銅フタロシアニン薄膜の蒸着時電圧印加による配向変化 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Orientational changes in copper phthalocyanine thin films by applying Voltages during evaporation process |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 銅フタロシアニン / Copper phthalocyanine |
キーワード(2)(和/英) | 塩化カリウム / Potassium chloride |
キーワード(3)(和/英) | 分子配向 / Molecular orientation |
キーワード(4)(和/英) | 真空蒸着 / Vapor deposition |
キーワード(5)(和/英) | 電圧印加 / Applying voltages |
第 1 著者 氏名(和/英) | 藤井 泰宏 / Y. Fujii |
第 1 著者 所属(和/英) | 京都大学工学研究科電子物性工学教室 Department of Electronics Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University |
第 2 著者 氏名(和/英) | 川戸 伸一 / S. Kawato |
第 2 著者 所属(和/英) | 京都大学工学研究科電子物性工学教室 Department of Electronics Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University |
第 3 著者 氏名(和/英) | 林 好一 / K. Hayashi |
第 3 著者 所属(和/英) | 京都大学工学研究科電子物性工学教室 Department of Electronics Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University |
第 4 著者 氏名(和/英) | 堀内 俊寿 / T. Horiuchi |
第 4 著者 所属(和/英) | 京都大学工学研究科電子物性工学教室 Department of Electronics Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University |
第 5 著者 氏名(和/英) | 松重 和美 / K. Matsushige |
第 5 著者 所属(和/英) | 京都大学工学研究科電子物性工学教室 Department of Electronics Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University |
発表年月日 | 1996/7/5 |
資料番号 | OME96-28 |
巻番号(vol) | vol.96 |
号番号(no) | 143 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |