| 講演名 | 1997/1/28 ポリイミド隔膜透過電子線励起ICPによる100nm超微細加工 山田 智也, 小川 慎司, 稲浪 良市, 森田 慎三, |
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| 抄録(和) | 隔膜により分離された反応槽中に, 隔膜を通して注入した透過電子線によりガス分子を励起してブラズマを生成する, 隔膜透過電子線励起プラズマプロセス装置を開発してきた. 隔膜材料にポリイミドを用いることにより, 透過電子線を3mAまで増加することができたが, 電子線励起のみでは放電は起こらなかった. そこで, 誘導結合プラズマ(ICP)上重畳することでプラズマを生成し, 100nmレベルの超微細構造をエッチング加工した. また, プローブ測定を行ない, 電子線の照射によって電子温度が上昇することが分かり, 低電力での安定なICP放電維持への電子線の寄与が示唆された. |
| 抄録(英) | Electron-beam excited plasma (EBEP),where the electron-beam was transmitted through the interface and excited the gas molecules has been developing. The transmitted electron-beam was increased up to about 3 mA by using polyimide as an interface material but the plasma couldn't be ignited only by the electron-beam. So the plasma was induced by superinposing the electron-beam and the inductively coupled plasma (ICP) and a etching through 100 nm resist pattern was performed successfuly. Electron temperature was higher when electron-beam was irradiated from the result of probe mesurement. This suggests that the electron-beam contribute to the maintainance of steady discharge of low RF power. |
| キーワード(和) | 電子線励起ICP / ポリイミド隔膜 / 100nmエッチング / プローブ測定 / 電子温度の上昇 |
| キーワード(英) | EBEP / Polyimide interface / 100 nm etching / probe measurement / increase of electron temperature |
| 資料番号 | OME96-86 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
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| 開催期間 | 1997/1/28(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ポリイミド隔膜透過電子線励起ICPによる100nm超微細加工 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | 100 nm ultra fine pattern etching by a polyimide interface transmitted electron beam excited ICP |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 電子線励起ICP / EBEP |
| キーワード(2)（和/英） | ポリイミド隔膜 / Polyimide interface |
| キーワード(3)（和/英） | 100nmエッチング / 100 nm etching |
| キーワード(4)（和/英） | プローブ測定 / probe measurement |
| キーワード(5)（和/英） | 電子温度の上昇 / increase of electron temperature |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 山田 智也 / Tomoya Yamada |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 名古屋大学先端技術共同研究センター Center for cooperative research in advanced science and technology, Nagoya University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 小川 慎司 / Shinji Ogawa |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 名古屋大学先端技術共同研究センター Center for cooperative research in advanced science and technology, Nagoya University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 稲浪 良市 / Ryouichi Inanami |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 名古屋大学先端技術共同研究センター Center for cooperative research in advanced science and technology, Nagoya University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 森田 慎三 / Shinzou Morita |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 名古屋大学先端技術共同研究センター Center for cooperative research in advanced science and Technology, Nagoya University |
| 発表年月日 | 1997/1/28 |
| 資料番号 | OME96-86 |
| 巻番号（vol） | vol.96 |
| 号番号（no） | 502 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |