| 講演名 | 1997/9/25 2次元プロセスシミュレータ用汎用拡散スキームの開発 熊代 成孝, 坂本 浩則, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 2次元プロセスシミュレータに, 新規拡散モデルを容易に組み込むことの出来る機構を設けた. 従来のプロトタイプモデル開発用偏微分方程式ソルバに比べ, 1.複数の異なった領域からなる構造の取扱いが可能, 2.領域境界に中間層を設け, 不純物のパイルアップ等のモデル化が可能, 3.二つの領域間の異なる拡散種間で結合拡散フラックスを定義可能, 4.フルプロセスシミュレータの一機能として実装されているため, 現実的な初期条件やデバイス構造の取扱いが可能, 等の特長を有している. |
| 抄録(英) | A scheme which can easily incorporate new diffusion models has been implemented in a two-dimensional process simulator. Compared with the existing PDE solvers used for prototype models development, the new scheme has following features: 1.MUltiple regions can be handled, 2.Impurity pile-up can be modeled by means of the inter-layers placed between the regions, 3.Coupling diffusion flux can be defined between two defferent diffusers in the different regions, 4.Because it is implemented as one function of a full process simulator, both realistic initial conditions and realistic device structures can be handled. |
| キーワード(和) | プロセスシミュレータ / 偏微分方程式ソルバ / 不純物拡散 / 汎用拡散スキーム / 点欠陥ペア拡散モデル |
| キーワード(英) | Proccss simulator / Partial differential equation solver / Impurity diffusion / Universal diffusion scheme / Point-defect pair diffusion model |
| 資料番号 | VLD97-45,ED97-83,SDM97-104,ICD97-120 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD |
|---|---|
| 開催期間 | 1997/9/25(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | VLSI Design Technologies (VLD) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 2次元プロセスシミュレータ用汎用拡散スキームの開発 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of a Universal Diffusion Scheme for a Two-Dimensional Process Simulator |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | プロセスシミュレータ / Proccss simulator |
| キーワード(2)（和/英） | 偏微分方程式ソルバ / Partial differential equation solver |
| キーワード(3)（和/英） | 不純物拡散 / Impurity diffusion |
| キーワード(4)（和/英） | 汎用拡散スキーム / Universal diffusion scheme |
| キーワード(5)（和/英） | 点欠陥ペア拡散モデル / Point-defect pair diffusion model |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 熊代 成孝 / Shigetaka Kumashiro |
| 第 1 著者 所属（和/英） | NEC ULSIデバイス開発研究所 ULSI Device Development Laboratories, NEC Corporation |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 坂本 浩則 / Hironori Sakamoto |
| 第 2 著者 所属（和/英） | NEC ULSIデバイス開発研究所 ULSI Device Development Laboratories, NEC Corporation |
| 発表年月日 | 1997/9/25 |
| 資料番号 | VLD97-45,ED97-83,SDM97-104,ICD97-120 |
| 巻番号（vol） | vol.97 |
| 号番号（no） | 268 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |