| 講演名 | 2000/3/8 酸化物誘電体の"その場"観察成長による成長初期過程の考察 : レーザラマン分光法を用いたTiO_2薄膜の"その場"観察成長 森澤 桐彦, 西田 謙, 村石 修一, 平木 昭夫, 河東田 隆, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 結晶成長における"その場"観察は、成長初期過程のメカニズムを解明するうえで最も重要である。しかし、CVD法やPVD法などの気相雰囲気中での"その場"観察技術は不十分である。そこで本研究では、気相雰囲気中でも影響を受けない光をプローブとしたラマン分光法を用いた"その場"観察成長システムを提案、PE-CVD(plasma enhanced CVD)装置と組み合わせ、TiO_2薄膜の"その場"観察成長を行った。TiO_2薄膜の"その場"観察成長の測定結果から、27.5Åという非常に薄い膜厚からの信号を得ることができた。成長初期においてTiシリサイドが形成され、TiO_2薄膜の結晶化に関与していることがわかった。また、基板からの応力により、成長モードを変えていることがわかった。 |
| 抄録(英) | In-situ |
| キーワード(和) | その場 |
| キーワード(英) | In-situ |
| 資料番号 | ED99-319, SDM99-212 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
|---|---|
| 開催期間 | 2000/3/8(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 酸化物誘電体の"その場"観察成長による成長初期過程の考察 : レーザラマン分光法を用いたTiO_2薄膜の"その場"観察成長 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Study of initial growth stage by"In-situ"monitoring growth of dielectric oxide : "In-situ"monitoring growth of TiO_ thin films using laser Raman spectroscopy |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | その場 / In-situ |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 森澤 桐彦 / K. Morisawa |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 高知工科大学 Kochi University of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 西田 謙 / K. Nishida |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 高知工科大学 Kochi University of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 村石 修一 / S. Muraishi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 日本電子ライオソニック株式会社 JEOL Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 平木 昭夫 / A. Hiraki |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 高知工科大学 Kochi University of Technology |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 河東田 隆 / T. Katoda |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 高知工科大学 Kochi University of Technology |
| 発表年月日 | 2000/3/8 |
| 資料番号 | ED99-319, SDM99-212 |
| 巻番号（vol） | vol.99 |
| 号番号（no） | 670 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |