講演名 | 1998/11/5 光化学堆積CdS薄膜の結晶構造と光学的特性 市村 正也, 後藤 文孝, 荒井 英輔, |
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抄録(和) | 光化学堆積(PCD)法によって堆積したCdSに熱処理を施し、構造的及び光学的特性の変化を測定した。熱処理前の堆積膜は準安定な立方晶であった。熱処理温度が440℃以下の範囲では立方晶が保たれるが、熱処理温度が450℃に達すると結晶構造は六方晶に変化し、同時に結晶性が向上する。さらにルミネッセンス強度も450℃の熱処理により大きく増加する。光吸収より求めた禁制帯幅は、低温(<400℃)の熱処理で堆積直後に比べて約0.1eV減少した後、450℃の熱処理で急激に増加して単結晶CdSとほぼ同じ値になった。以上より、450℃以上の温度で熱処理を施せば、良好な結晶性の六方晶CdSが得られることが示された。 |
抄録(英) | CdS thin films grown by photochemical deposition(PCD)are characterized by X-ray diffraction(XRD), Raman spectroscopy, photoluminescence and optical transmission measurements. The as-deposited film is dominantly zincblende cubic. The cubic phase remains dominant until the annealing temperature T becomes higher than 440℃. After the annealing at 450℃, the structure turns to hexagonal and the XRD peak width decreases. The near-band-edge liminescence is observed for T>450℃. The bandgap is decreased by annealing at T<440℃ and then abruptly increased by the annealing at 450℃. |
キーワード(和) | CdS / 光化学堆積法 / 太陽電池 / 熱処理 / 相転移 |
キーワード(英) | CdS / photochemical deposition / solar cell / annealing / phase transition |
資料番号 | ED98-128,CPM98-131 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | ED |
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開催期間 | 1998/11/5(から1日開催) |
開催地(和) | |
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テーマ(和) | |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 光化学堆積CdS薄膜の結晶構造と光学的特性 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Crystal structure and optical properties of CdS films grown by photochemical deposition |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | CdS / CdS |
キーワード(2)(和/英) | 光化学堆積法 / photochemical deposition |
キーワード(3)(和/英) | 太陽電池 / solar cell |
キーワード(4)(和/英) | 熱処理 / annealing |
キーワード(5)(和/英) | 相転移 / phase transition |
第 1 著者 氏名(和/英) | 市村 正也 / M. ICHIMURA |
第 1 著者 所属(和/英) | 名古屋工業大学共同研究センター Center for Cooperative Research, Nagoya Institute of Technology |
第 2 著者 氏名(和/英) | 後藤 文孝 / F. GOTO |
第 2 著者 所属(和/英) | 名古屋工業大学電気情報工学科 Department of Electrical and Computer Engineering, Nagoya Institute of Technology |
第 3 著者 氏名(和/英) | 荒井 英輔 / E. ARAI |
第 3 著者 所属(和/英) | 名古屋工業大学電気情報工学科 Department of Electrical and Computer Engineering, Nagoya Institute of Technology |
発表年月日 | 1998/11/5 |
資料番号 | ED98-128,CPM98-131 |
巻番号(vol) | vol.98 |
号番号(no) | 383 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |