| 講演名 | 1995/12/14 感光性ガラスを用いたマイクロチャネルプレート 坂本 敏昭, 高橋 幸郎, |
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| 抄録(和) | 筆者らはSi単結晶基板上に微細加工技術を用いてマイクロチャネルプレート(MCP)基盤を形成し、電子増借膜をCVD法により内壁に成膜してMCPを製作する技術を開発してきた。しかし、Siの異方性エッチングにより得られるチャネル形状は、スリット状に限定され利得が不十分であった。本研究ではMCP基盤として感光性ガラスを用い、チャネル形状の制限を回避する方法を開発した。即ち、マスクパターンを用いて感光性ガラスを露光することにより感光部分のみにHFによる選択的なエッチングを行えることを利用して、マイクロチャネルの形成を行った。電子増倍膜はPbのアルコキシドを用いたゾル・ゲル法によりチャネル内壁に成膜した。この方法により試作したMCPは平均アスペクト比が8.4、最大電子増倍利得は22倍(入射電流51pA、印加電圧600V)を得た。 |
| 抄録(英) | We proposed a new MCP with a monolithic structure, which was formed on a single crystal silicon substrate by using micro fabrication technologies. However, the form of the micro-channels of this MCP is a slit structure because the micro-channels are formed by using silicon anisotropic etching. In this study, we have developed technologies of forming microchannels on photosensitive glass as the MCP substrate. Etching speed by HF etchant of an area exposed to UV can be increased, and microchannels with any form defined by the mask pattern can be produced. Secondary, electron multiplication films are formed by the sol-gel method using an alkoxide of Pb which is deposited on the internal surface of microchannels. The electron gain of the MCP fabricated by this method was about 22 at the dynode voltage of 600 V, and aspect ratio of the microchannel was 8.4. |
| キーワード(和) | MCP / 微細加工技術 / 感光性ガラス / ゾル・ゲル法 / 二次電子増倍膜 |
| キーワード(英) | MCP / photosensitive glass / Sol-gel method / Secondary electron multiplication films |
| 資料番号 | ED95-135 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 1995/12/14(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 感光性ガラスを用いたマイクロチャネルプレート |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Microchannel Plate Using Photosensitive Glass |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | MCP / MCP |
| キーワード(2)（和/英） | 微細加工技術 / photosensitive glass |
| キーワード(3)（和/英） | 感光性ガラス / Sol-gel method |
| キーワード(4)（和/英） | ゾル・ゲル法 / Secondary electron multiplication films |
| キーワード(5)（和/英） | 二次電子増倍膜 |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 坂本 敏昭 / T. Sakamoto |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 埼玉大学工学部電気電子工学 Department Electronics, Faculty of Engineering Saitama University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 高橋 幸郎 / K. Takahashi |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 埼玉大学工学部電気電子工学 Department Electronics, Faculty of Engineering Saitama University |
| 発表年月日 | 1995/12/14 |
| 資料番号 | ED95-135 |
| 巻番号（vol） | vol.95 |
| 号番号（no） | 424 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |