| 講演名 | 1995/12/14 星形薄膜フィールド・エミッタの発光パターン 金子 彰, 工藤 祐治, 住田 勲勇, |
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| 抄録(和) | 星形薄膜フィールド・エミッタの発光パターンに関して検討した。エミッション初期に特異な発光パターンが見られ、電子軌道シミュレーションとの対比を行い、概略一致を見た。単一星形薄膜FEおよび200μm^口星形薄膜FEAの発光パターンの観察より、星の先端から電子放出が起こり、長時間のエミッションにより発光像がスポット状になるのを確認した。また、フォーカス電極付き星形薄膜FEAを試作し、発光像に及ぼすフォーカス電極電位による収束効果を検討した。そして、フォーカス電極電位-200Vにおいて、収縮率0.48、電子放出角17°、発散角28°を得た。 |
| 抄録(英) | On the initial stage of electron emission from a starlike field emitter (FE), a unique light emitting pattern was observed and its geometrical configuration was roughly agreed with the simulation result. From the observation of light emitting images for a single starlike FE and a 200μm-square FEA, it was confirmed that the electron emission occurred from the apices of the starlike emitter and after longer time operation, the light emitting image changed spotty image. Also, a FEA with focus electrode have been fabricated and the contraction rate of 0.48 and the electron emitting angle of 17° at 200V of focus electrode potential were obtained. |
| キーワード(和) | フィールド・エミッ夕 / 発光像 / フォーカス電極 / 電子放出角 |
| キーワード(英) | field emitter / light emitting image / focus electrode / electron emitting angle |
| 資料番号 | ED95-134 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 1995/12/14(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 星形薄膜フィールド・エミッタの発光パターン |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Light Emitting Image for Starlike Thin-film Field Emitter |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | フィールド・エミッ夕 / field emitter |
| キーワード(2)（和/英） | 発光像 / light emitting image |
| キーワード(3)（和/英） | フォーカス電極 / focus electrode |
| キーワード(4)（和/英） | 電子放出角 / electron emitting angle |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 金子 彰 / Akira KANEKO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 松下技研(株)新素材研究所 Advanced Materials Research Laboratory, Matsushita Research Institute Tokyo, Inc. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 工藤 祐治 / Yuji KUDOH |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 松下技研(株)新素材研究所 Advanced Materials Research Laboratory, Matsushita Research Institute Tokyo, Inc. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 住田 勲勇 / Isao SUMITA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 松下技研(株)新素材研究所 Advanced Materials Research Laboratory, Matsushita Research Institute Tokyo, Inc. |
| 発表年月日 | 1995/12/14 |
| 資料番号 | ED95-134 |
| 巻番号（vol） | vol.95 |
| 号番号（no） | 424 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |