| 講演名 | 1996/4/25 溶液処理Si表面におけるIPAの吸着 宮田 典幸, 小尻 英博, 岡村 茂, 久継 徳重, |
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| 抄録(和) | インプロヒルアルコール(IPA)中における溶液処理Si表面への有機物の吸着について、赤外分光法および昇温脱離分光法を用いて観測した。H終端処理表面の方が溶液酸化表面に比べてIPAが吸着し易いことが明らかになった。また、H終端Si(100)面では、IPAが表面SiHおよびSiH_2と反応してC_3H_7O-Siを形成することがわかった。 |
| 抄録(英) | We studied the adsorption of isopropanol (IPA) on chemically treated Si(100) surfaces. Infrared spectroscopy (IRS) and thermal desorption spectroscopy (TDS) were employed to examine adsorbed species on a Si(100) surface immersed in liquid IPA. We show that in liquid IPA the H terminated Si(100) is more reactive than a chemically oxidized Si surface. Furthermore, we suggest that the liquid IPA reacts with the SiH and SiH_2 on the Si(100) surface to produce a C_3H_7O specie which is chemically bonded to the Si substrate. |
| キーワード(和) | LAP / H終端Si / 赤外分光 / 昇温脱離分光 |
| キーワード(英) | ISA / H terminated Si / infrared spectroscopy / thermal desorption spectroscopy |
| 資料番号 | ED-96-13,SDM-96-13 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 1996/4/25(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 溶液処理Si表面におけるIPAの吸着 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Adsorption of IPA on Chemically treated Si surfaces |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | LAP / ISA |
| キーワード(2)（和/英） | H終端Si / H terminated Si |
| キーワード(3)（和/英） | 赤外分光 / infrared spectroscopy |
| キーワード(4)（和/英） | 昇温脱離分光 / thermal desorption spectroscopy |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 宮田 典幸 / N. Miyata |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 富士通研究所 Fujitsu Laboratories Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 小尻 英博 / H. Kojiri |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 富士通 Fujitsu Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 岡村 茂 / S. Okamura |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 富士通研究所 Fujitsu Laboratories Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 久継 徳重 / T. Hisatugu |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 富士通研究所 Fujitsu Laboratories Ltd. |
| 発表年月日 | 1996/4/25 |
| 資料番号 | ED-96-13,SDM-96-13 |
| 巻番号（vol） | vol.96 |
| 号番号（no） | 18 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |