講演名 2001/10/19
Si(111)面のIn誘起表面再構成上へのSbの吸着
, / 古川 雄三, 森 雅之, 丹保 豊和, 龍山 智栄,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) Si(111)面のIn誘起表面相上へのSbの吸着過程を200~400℃の温度範囲で研究した。1ML以下のSb吸着によってSi(111)-In(4×1)上では(2×2)、In(√<3>×√<3>)上では(√<7>×√<7>)構造が観測された。In(√<31>×√<31>)上へのSb吸着では不規則な構造となった。AES分析から、(2×2)と(√<7>×√<7>)構造は、InとSbの両原子から構成され、(2×2)構造は2原子層からなるInSb(2×2)、(√<7>×√<7>)構造は1原子層からなるInSb(√<7>×√<7>)相であることが分かった。Sb吸着の最終段階(1ML)ではいずれの場合もSb(2×1)とSb(√<3>×√<3>)構造の共存相が形成され、この時Inは凝集して小さなアイランドとなっている。
抄録(英) The Sb adsorption processes on the In-induced surface phases were studied in the temperature range of 200 to 400℃. The formation of Si-InSb surface structures with (2×2) and (√<7>×√<7>)periodicity were found in Sb/In(4×1)and Sb/In(√<3>×√<3>) systems, respectively. No order InSb reconstructions were observed during Sb deposition on the In (√<31>×√<31>) surface. AES analyses have confirmed that(2×2) and (√<7>×√<7>) structures consist of both In and Sb atoms and have double- ans single-layer arrangements of InSb(2×2) and InSb(√<7>×√<7>) phases, respectively. The final stage of Sb adsorption (1 ML) is the same in all the systems, namely the formation of Sb(2×1) and Sb(√<3>×√<3>) surface phases according with the complete agglomeration of In atoms.
キーワード(和) Scanning Tunneling Microscopy(STM) / In誘起表面相 / Sbの吸着 / InSb
キーワード(英) Scanning Tunneling Microscopy(STM) / In-induced surface phase / Sb adsorption / InSb
資料番号 CPM2001-107
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2001/10/19(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 ENG
タイトル(和) Si(111)面のIn誘起表面再構成上へのSbの吸着
サブタイトル(和)
タイトル(英) Sb Adsorption on the In-induced Reconstructions of Si(111) Surface
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) Scanning Tunneling Microscopy(STM) / Scanning Tunneling Microscopy(STM)
キーワード(2)(和/英) In誘起表面相 / In-induced surface phase
キーワード(3)(和/英) Sbの吸着 / Sb adsorption
キーワード(4)(和/英) InSb / InSb
第 1 著者 氏名(和/英) / Dimitry V. GRUZNEV
第 1 著者 所属(和/英) 富山大学工学部
Faculty of Engineering, Toyama University:Institute of Automation and Control Processes
第 2 著者 氏名(和/英) / 古川 雄三 / Bommisetty V. RAO
第 2 著者 所属(和/英) 富山大学工学部
Faculty of Engineering, Toyama University
第 3 著者 氏名(和/英) 森 雅之 / Yuzo FURUKAWA
第 3 著者 所属(和/英) 富山大学工学部
Faculty of Engineering, Toyama University
第 4 著者 氏名(和/英) 丹保 豊和 / Masayuki MORI
第 4 著者 所属(和/英) 富山大学工学部
Faculty of Engineering, Toyama University
第 5 著者 氏名(和/英) 龍山 智栄 / Toyokazu TAMBO
第 5 著者 所属(和/英) 富山大学工学部
Faculty of Engineering, Toyama University
発表年月日 2001/10/19
資料番号 CPM2001-107
巻番号(vol) vol.101
号番号(no) 395
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日