講演名 2001/10/19
太陽電池に向けたSi基板上CuInS_2薄膜の検討
大石 耕一郎, 片桐 裕則, 小林 敏志, 坪井 望,
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抄録(和) 構成元素単体を蒸発原料とした多元同時真空蒸着法により、Si(100)基板上にCuInS_2薄膜の成長を行った。成長速度を遅くした方が膜の結晶性が向上することを実験的に確認し、基板温度400℃において成長速度0.08μm/hとなる成長条件を適用した。X線回折から、膜が基板の配向の影響を受けて成長していることが確認できたが、膜厚の増加とともに異相の存在を示す回折ピークが現れた。Al/ n-CuInS_2/ p-Si/ Al構造として試作した太陽電池の電流-電圧特性では、209mVの開放電圧を0.404のFFが得られた。
抄録(英) CuInS_2 have been grown on Si(100) by the vacuum evaporation technique using constituent elementary substances as sources. It is experimentally found that the lower growth rate yielded the better crystallization. The growth rate of 0.08 μm/h has been applied, and the substrate was kept a constant temperature at 400℃ during the growth. The X-ray diffraction patterns of the films show that the orientation of the Si substrates had an influence on the growth direction of the films. The diffraction peaks, which show the existence of another phases, appeared in the X-ray diffraction patterns of thicker films. A trial solar cell with a structure of Al/ n-CuInS_2/ p-Si/ Al was fabricated. An open-circuit voltage of 209mV and a fill factor of 0.404 were obtained by the measurement of I-V characteristics.
キーワード(和) CuInS_2 / カルコパイライト型化合物 / 真空蒸着 / X線回折 / カルコパイライト構造 / スファレライト構造
キーワード(英) CuInS_2 / chalcopyrite compounds / vacuum evaporation / X-ray diffraction / chalcopyrite structure / sphalerite structure
資料番号 CPM2001-98
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2001/10/19(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 太陽電池に向けたSi基板上CuInS_2薄膜の検討
サブタイトル(和)
タイトル(英) Growth of CuInS_2 films on Si substrates toward solar cells
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) CuInS_2 / CuInS_2
キーワード(2)(和/英) カルコパイライト型化合物 / chalcopyrite compounds
キーワード(3)(和/英) 真空蒸着 / vacuum evaporation
キーワード(4)(和/英) X線回折 / X-ray diffraction
キーワード(5)(和/英) カルコパイライト構造 / chalcopyrite structure
キーワード(6)(和/英) スファレライト構造 / sphalerite structure
第 1 著者 氏名(和/英) 大石 耕一郎 / Koichiro OISHI
第 1 著者 所属(和/英) 長岡工業高等専門学校
Nagaoka National College of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 片桐 裕則 / Hironori KATAGIRI
第 2 著者 所属(和/英) 長岡工業高等専門学校
Nagaoka National College of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 小林 敏志 / Satoshi KOBAYASHI
第 3 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 4 著者 氏名(和/英) 坪井 望 / Nozomu TSUBOI
第 4 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
発表年月日 2001/10/19
資料番号 CPM2001-98
巻番号(vol) vol.101
号番号(no) 395
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日