講演名 2001/6/29
ゾル-ゲルPZT圧電膜における焼成条件の検討
名古屋 崇, 鈴木 孝志, 大森 達也, 橋本 研也, 山口 正恒,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) 本報告では、ゾル-ゲル法によるチタン酸-ジルコン酸鉛(PZT)圧電膜の堆積において、焼成条件が特性にどの様な影響を及ぼすかについて検討した。焼成時間や焼成中の酸素導入の有無によって、結晶性と同様に圧電性が大きく変化する。下地金属の荒れも考慮して、最適条件を決定した。
抄録(英) This paper described influence of the sintering condition for the sol-gel deposition of piezoelectric lead zirconate titanate (PZT) films. Their crystallographic and piezoelectric characteristics are very dependent upon not only the sintering time but also the atmosphere. Under taking their influence to the buffer metal layer into account, the optimal deposition condition was derived.
キーワード(和) PZT / ゾル-ゲル法 / 焼成時間 / 酸素導入 / バッファ層
キーワード(英) PZT / Sol-gel method / Sintering time / O_2 gas / Buffer layer
資料番号 US2001-29, EMD2001-21 CPM2001-36, OME2001-31
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2001/6/29(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) ゾル-ゲルPZT圧電膜における焼成条件の検討
サブタイトル(和)
タイトル(英) Influence of Sintering Condition in Sol-Gel Derived Piezoelectric PZT Thin Films
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) PZT / PZT
キーワード(2)(和/英) ゾル-ゲル法 / Sol-gel method
キーワード(3)(和/英) 焼成時間 / Sintering time
キーワード(4)(和/英) 酸素導入 / O_2 gas
キーワード(5)(和/英) バッファ層 / Buffer layer
第 1 著者 氏名(和/英) 名古屋 崇 / T. Nagoya
第 1 著者 所属(和/英) 千葉大学工学部電子機械工学科
Dept.Electronics and Mechanical Eng., Chiba University
第 2 著者 氏名(和/英) 鈴木 孝志 / T. Suzuki
第 2 著者 所属(和/英) 千葉大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology, Chiba University
第 3 著者 氏名(和/英) 大森 達也 / T. Omori
第 3 著者 所属(和/英) 千葉大学工学部電子機械工学科
Dept.Electronics and Mechanical Eng., Chiba University
第 4 著者 氏名(和/英) 橋本 研也 / K. Hashimoto
第 4 著者 所属(和/英) 千葉大学工学部電子機械工学科
Dept.Electronics and Mechanical Eng., Chiba University
第 5 著者 氏名(和/英) 山口 正恒 / M. Yamaguchi
第 5 著者 所属(和/英) 千葉大学工学部電子機械工学科
Dept.Electronics and Mechanical Eng., Chiba University
発表年月日 2001/6/29
資料番号 US2001-29, EMD2001-21 CPM2001-36, OME2001-31
巻番号(vol) vol.101
号番号(no) 170
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日