講演名 | 2001/5/18 シリコン紬線MOS構造における素電荷の検出と転送 藤原 聡, 高橋 庸夫, |
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抄録(和) | シリコン細線をチャネルとしたMOS構造において、単正孔の保持と検出及びその転送を温度25Kで実現し、シリコンにおける初めての素電荷操作に成功した。作製した構造は、SOI基板上の近接した2個のシリコン細線MOSFBTから構成される、いわば超小型の電荷結合素子(CCD)であり、両チャネル間の単正孔の転送が可能となる。単正孔の存在の保持と検出には、シリコン紬線に印加した基板垂直方向の電界により、保持正孔とそれを検出する電子電流を空間的に分離し、それぞれを上下のSi/SIO_2界面に局在させるという、 新しい電子正孔共存系を利用した。 |
抄録(英) | Detection and transfer of single holes are demonstrated in Si-wire MOS structures at 25K. This is the first realization of a silicon-based device that manipulates elementary charge. The device consists of two closely packed n-channel Si-wire MOSFETs, which is in effect an ultrasmall charge-coupled device. We develope a new method of storing holes and sensing them on the elementary-charge level. It utilizes a new electron-hole system in the Si wire; stored holes and electrons that sense them are separated and locate at different Si/SiO_2 interface due to applied electric field. |
キーワード(和) | シリコン細線 / SOI / MOSFET / 電荷結合素子 / 単電子 / 単正孔 / 電荷転送 |
キーワード(英) | Si wire / SOI / MOSFET / CCD / single electron / single hole / charge transfer |
資料番号 | ED2001-38,CPM2001-25,SDM2001-38 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 2001/5/18(から1日開催) |
開催地(和) | |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | シリコン紬線MOS構造における素電荷の検出と転送 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Detection and transfer of elementary charge in Si-wire MOS structures |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | シリコン細線 / Si wire |
キーワード(2)(和/英) | SOI / SOI |
キーワード(3)(和/英) | MOSFET / MOSFET |
キーワード(4)(和/英) | 電荷結合素子 / CCD |
キーワード(5)(和/英) | 単電子 / single electron |
キーワード(6)(和/英) | 単正孔 / single hole |
キーワード(7)(和/英) | 電荷転送 / charge transfer |
第 1 著者 氏名(和/英) | 藤原 聡 / A. Fujiwara |
第 1 著者 所属(和/英) | NTT物性科学基礎研究所 NTT Basic Research Laboratories |
第 2 著者 氏名(和/英) | 高橋 庸夫 / Y. Takahashi |
第 2 著者 所属(和/英) | NTT物性科学基礎研究所 NTT Basic Research Laboratories |
発表年月日 | 2001/5/18 |
資料番号 | ED2001-38,CPM2001-25,SDM2001-38 |
巻番号(vol) | vol.101 |
号番号(no) | 81 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |