講演名 2001/5/18
シリコン紬線MOS構造における素電荷の検出と転送
藤原 聡, 高橋 庸夫,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) シリコン細線をチャネルとしたMOS構造において、単正孔の保持と検出及びその転送を温度25Kで実現し、シリコンにおける初めての素電荷操作に成功した。作製した構造は、SOI基板上の近接した2個のシリコン細線MOSFBTから構成される、いわば超小型の電荷結合素子(CCD)であり、両チャネル間の単正孔の転送が可能となる。単正孔の存在の保持と検出には、シリコン紬線に印加した基板垂直方向の電界により、保持正孔とそれを検出する電子電流を空間的に分離し、それぞれを上下のSi/SIO_2界面に局在させるという、 新しい電子正孔共存系を利用した。
抄録(英) Detection and transfer of single holes are demonstrated in Si-wire MOS structures at 25K. This is the first realization of a silicon-based device that manipulates elementary charge. The device consists of two closely packed n-channel Si-wire MOSFETs, which is in effect an ultrasmall charge-coupled device. We develope a new method of storing holes and sensing them on the elementary-charge level. It utilizes a new electron-hole system in the Si wire; stored holes and electrons that sense them are separated and locate at different Si/SiO_2 interface due to applied electric field.
キーワード(和) シリコン細線 / SOI / MOSFET / 電荷結合素子 / 単電子 / 単正孔 / 電荷転送
キーワード(英) Si wire / SOI / MOSFET / CCD / single electron / single hole / charge transfer
資料番号 ED2001-38,CPM2001-25,SDM2001-38
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2001/5/18(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) シリコン紬線MOS構造における素電荷の検出と転送
サブタイトル(和)
タイトル(英) Detection and transfer of elementary charge in Si-wire MOS structures
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) シリコン細線 / Si wire
キーワード(2)(和/英) SOI / SOI
キーワード(3)(和/英) MOSFET / MOSFET
キーワード(4)(和/英) 電荷結合素子 / CCD
キーワード(5)(和/英) 単電子 / single electron
キーワード(6)(和/英) 単正孔 / single hole
キーワード(7)(和/英) 電荷転送 / charge transfer
第 1 著者 氏名(和/英) 藤原 聡 / A. Fujiwara
第 1 著者 所属(和/英) NTT物性科学基礎研究所
NTT Basic Research Laboratories
第 2 著者 氏名(和/英) 高橋 庸夫 / Y. Takahashi
第 2 著者 所属(和/英) NTT物性科学基礎研究所
NTT Basic Research Laboratories
発表年月日 2001/5/18
資料番号 ED2001-38,CPM2001-25,SDM2001-38
巻番号(vol) vol.101
号番号(no) 81
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日