講演名 2001/5/17
MOVPE成長CdTe層へのヒ素ドーピング特性
増田 祐輔, 富田 泰光, 石黒 智章, 川内 康弘, 保木 一樹, 森下 浩志, 安田 和人,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) ターシャリブチルヒ素(TBAs)をp型ドーパントとしたMOVPE成長CdTe層へのドーピング特性について検討を行った成長基板には(100)GaAs基板を用い, Cd原料はジメチルカドウム(DMCd), Te原料はジエチルテルル(DETe)及びジイソプロピルテルル(DiPTe)を用いた. 成長条件及びドーピング条件を最適化することで, ドープ層正孔密度は10^<14>から10^<17>cm^<-3>まで広範側に制御できることがわかった. また, 成長原料がドーピング特性に及ぼす影響やドーピングが成長特性に及ぼす影響等についても検討を行った.
抄録(英) Characteristics of arsenic doping in CdTe layers on (100)GaAs have been studied in MOVPE using tertialybutylarsine(TBAs) as a p-type dopant. Dimethylcadmium(DMCd), diethyltelluride (DETe) and diisopropyltelluride(DiPTe) were used as precursors. Hole densities of doped layers were controlled from 10^<14> to 10^<17>cm^<-3>. Effect of doping on the growth characterisics was also studied.
キーワード(和) MOVPE / ドーピング特性 / DMCd / DETe / DiPTe / TBAs
キーワード(英) MOVPE / doping characteristics / DMCd / DETe / DiPTe / TBAs
資料番号 ED2001-16,CPM2001-3,SDM2001-16
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2001/5/17(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) MOVPE成長CdTe層へのヒ素ドーピング特性
サブタイトル(和)
タイトル(英) Arsenic doping in CdTe layers grown by metalorganic vapor phase epitaxy
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) MOVPE / MOVPE
キーワード(2)(和/英) ドーピング特性 / doping characteristics
キーワード(3)(和/英) DMCd / DMCd
キーワード(4)(和/英) DETe / DETe
キーワード(5)(和/英) DiPTe / DiPTe
キーワード(6)(和/英) TBAs / TBAs
第 1 著者 氏名(和/英) 増田 祐輔 / Yusuke Masuda
第 1 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 富田 泰光 / Yasumitsu Tomita
第 2 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 石黒 智章 / Tomoaki Ishiguro
第 3 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 川内 康弘 / Yasuhiro Kawauchi
第 4 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
第 5 著者 氏名(和/英) 保木 一樹 / Kazuki Hoki
第 5 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
第 6 著者 氏名(和/英) 森下 浩志 / Hiroshi Morishita
第 6 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
第 7 著者 氏名(和/英) 安田 和人 / Kazuhito Yasuda
第 7 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
発表年月日 2001/5/17
資料番号 ED2001-16,CPM2001-3,SDM2001-16
巻番号(vol) vol.101
号番号(no) 80
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日