講演名 2000/8/18
CPM2000-87 真空蒸着法によるC60超薄膜の作製
大下 和洋, 岩田 展幸, 山本 寛,
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抄録(和) 真空蒸着法により、K-CellからC60粉末を昇華させ雲母基板上にC60薄膜を形成した。膜成長モードとして、基板温度200~230°CまでのVolmer-Weberタイプと240~260°CのFrank-van der Merweタイプが見い出された。また、基板温度240°Cでは雲母基板の一部に(111)エピタキシャル成長が確認された。表面平滑な超薄膜形成を目指した結果、基板温度250°Cにおいて、膜厚約10nmのほぼ連続的なC60超薄膜が形成された。
抄録(英) We have prepared C60 thin films on mica substrates from a K-Cell evaporation source by a vacuum evaporation technique. As a thin film growth mode a Volmer-Weber and a Frank-van der Merwe type of growth was observed in the substrate temperature range of 200~230 °Cand 240~260°C, respectively. A(111)epitaxial growth of C60 took place on 240 °C mica substrates. As a result almost continuous and/or flat C60 ultrathin films with a thickness of about 10nm were obtained on 250 °C mica substrates.
キーワード(和) C60 / 雲母基板 / 真空蒸着 / エピタキシャル / 超薄膜
キーワード(英) C60 / Mica Substrate / Vacuum Evaporation / Epitaxial / Ultrathin Film
資料番号 CPM2000-87
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2000/8/18(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) CPM2000-87 真空蒸着法によるC60超薄膜の作製
サブタイトル(和)
タイトル(英) CPM2000-87 Preparation of C60 Ultrathin Film by Vacuum Evaporation
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) C60 / C60
キーワード(2)(和/英) 雲母基板 / Mica Substrate
キーワード(3)(和/英) 真空蒸着 / Vacuum Evaporation
キーワード(4)(和/英) エピタキシャル / Epitaxial
キーワード(5)(和/英) 超薄膜 / Ultrathin Film
第 1 著者 氏名(和/英) 大下 和洋 / Kazuhiro OOSHITA
第 1 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Sci.& Technol., Nihon University
第 2 著者 氏名(和/英) 岩田 展幸 / Nobuyuki IWATA
第 2 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Sci.& Technol., Nihon University
第 3 著者 氏名(和/英) 山本 寛 / Hiroshi YAMAMOTO
第 3 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Sci.& Technol., Nihon University
発表年月日 2000/8/18
資料番号 CPM2000-87
巻番号(vol) vol.100
号番号(no) 272
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日