講演名 2000/5/12
MOVPE法によるGaAs(100)基板上CdSの成長特性
ヘムザ ビン サミオン, 富田 泰光, 増田 祐輔, 安田 和人,
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抄録(和) 有機金属気相成長(MOVPE)法により成長したCdS層の成長特性について検討した.成長基板には(100)GaAs基板を用い, 原料はジメチルカドウム(DMCd)及びH_2Sを用いた.CdS層は, 成長温度250~350℃では立方晶が成長し, 350℃の温度域では六方晶が混在することが分かった.成長温度300℃で単結晶の立方晶CdS層をバッファ層として成長した後, 450℃でCdS層を再成長することにより, 良好な結晶性を持った立方晶のCdS層が得られることが分かった。
抄録(英) Growth characteristics of CdS layers on(100)GaAs have been studied in MOVPE using dimethylcadmium(DMCd)and hydrogen sulphide(H_2S)as precursors. Grown layers showed cubic phase for growth temperature between 250 and 350℃ and mixed phase of cubic and hexagonal above 350℃. High quality cubic CdS layers were obtained by two-step growth procedure, where is the single crystal cubic CdS layers were grown at 300℃ as buffer layers, and second layers were grown on them at 450℃.
キーワード(和) MOVPE / 成長特性 / DMCd / H_2S / 立方晶CdS
キーワード(英) MOVPE / growth characteristics / DMCd / H_2S / cubic CdS
資料番号 ED2000-33, CPM2000-18, SDM2000-33
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2000/5/12(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) MOVPE法によるGaAs(100)基板上CdSの成長特性
サブタイトル(和)
タイトル(英) Growth characteristics of CdS layers on(100)GaAs by metalorganic vapor phase epitaxy
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) MOVPE / MOVPE
キーワード(2)(和/英) 成長特性 / growth characteristics
キーワード(3)(和/英) DMCd / DMCd
キーワード(4)(和/英) H_2S / H_2S
キーワード(5)(和/英) 立方晶CdS / cubic CdS
第 1 著者 氏名(和/英) ヘムザ ビン サミオン / H.B.Samion H
第 1 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 富田 泰光 / Yasumitsu Tomita
第 2 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 増田 祐輔 / Yusuke Masuda
第 3 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 安田 和人 / Kazuhito Yasuda
第 4 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学 電気情報工学科
Department of Electrical and Computer Engineering Nagoya Institute of Technology
発表年月日 2000/5/12
資料番号 ED2000-33, CPM2000-18, SDM2000-33
巻番号(vol) vol.100
号番号(no) 60
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日