講演名 1999/5/20
電子ビーム励起プラズマによる光触媒二酸化チタン薄膜の環境への応用
久保田 高徳, 鈴木 連, 六鹿 太詞, 黄 振賢, 吉岡 敏太郎, 貴田 桂介, 馬場 清英, 西脇 彰, 池澤 俊治郎, 二宮 善彦,
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抄録(和) 本研究では、電子ビーム励起プラズマ(Electron-Beam-Excited Plasma)装置の応用として、様々な種類の薄膜を成膜しようと試みている。EBEP装置には優れた特徴があり、電子ビームエネルギーと電子ビーム密度を加速電圧V_Aと放電電流I_Dによってそれぞれ独立に制御できるという特徴がある。薄膜の膜質はそれらのパラメータを変化させることにより制御できる。例としてTiO_2膜は加速電圧V_Aを80V、90V、100Vそして放電電流I_Dを3A、4A、5Aと変化させていきスパッタすることにより成膜させていくことができる。結果として、膜色と膜の組成がV_Aによって制御することができ、そして成膜速度がI_Dによって制御できることがわかった。今後は応用として空調用フィルタヘTiO_2膜の成膜を試みようとしている。
抄録(英) As the application of EBEP (Electron-Beam-Excited Plasma) apparatus, we try to make many kinds of thin films. There is remarkable characteristic in EBEP; The electron-beam eneregy and density are controlled independently by accelerating voltage V_A and discharge current I_D, respectively. The film quality can be controlled by their variations. As an instance of them, TiO_2 films are formed by means of the electron-beam method, varying the V_A(80, 90, and 100V) and I_D(3, 4, and 5A). As a result, it is found that film color and their composition are controlled by V_A and deposition rate is controlled by I_D, And, TiO_2 film deposited on the filter of air conditioner will be tried in meter size EBEP as an application.
キーワード(和) EBEP装置 / 二酸化チタン薄膜 / 放電電流 / 加速電圧
キーワード(英) EBEP Apparatus / TiO_2 film / Discharge current / Accelerating voltage
資料番号 CPM99-2
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 1999/5/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 電子ビーム励起プラズマによる光触媒二酸化チタン薄膜の環境への応用
サブタイトル(和)
タイトル(英) Application of TiO_2 film with optical catalyst to environment by Electron-Beam-Excited Plasma
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) EBEP装置 / EBEP Apparatus
キーワード(2)(和/英) 二酸化チタン薄膜 / TiO_2 film
キーワード(3)(和/英) 放電電流 / Discharge current
キーワード(4)(和/英) 加速電圧 / Accelerating voltage
第 1 著者 氏名(和/英) 久保田 高徳 / Takanori Kubota
第 1 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
第 2 著者 氏名(和/英) 鈴木 連 / Ren Suzuki
第 2 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
第 3 著者 氏名(和/英) 六鹿 太詞 / Taishi Mutuga
第 3 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
第 4 著者 氏名(和/英) 黄 振賢 / Shinken Koh
第 4 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
第 5 著者 氏名(和/英) 吉岡 敏太郎 / Toshitaro Yoshioka
第 5 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
第 6 著者 氏名(和/英) 貴田 桂介 / Keisuke Kida
第 6 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
第 7 著者 氏名(和/英) 馬場 清英 / Kiyohide Baba
第 7 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
第 8 著者 氏名(和/英) 西脇 彰 / Akira Nishiwaki
第 8 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
第 9 著者 氏名(和/英) 池澤 俊治郎 / Shunjiro Ikezawa
第 9 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
第 10 著者 氏名(和/英) 二宮 善彦 / Yoshihiko Ninomiya
第 10 著者 所属(和/英) 中部大学 工学部
Collage of Engineering, Chubu University
発表年月日 1999/5/20
資料番号 CPM99-2
巻番号(vol) vol.99
号番号(no) 65
ページ範囲 pp.-
ページ数 8
発行日