| 講演名 | 1999/5/20 電子ビーム励起プラズマによる光導波路用五酸化ニオブ薄膜の特性 鈴木 連, 久保田 高徳, 六鹿 太詞, 黄 振賢, 吉岡 敏太郎, 貴田 桂介, 馬場 清英, 池澤 俊治郎, 西脇 彰, |
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| 抄録(和) | 本研究では、制御性の良さが特徴である電子ビーム励起プラズマ(EBEP:Electron-Beam-Excited Plasma)装置の応用として、様々な種類の薄膜を成膜しようと試みている。その1つとして、導波路型光変調器を作成するために基板での電解が変化すると屈折率が変化する電気光学結晶を用いることを前提とした五酸化ニオブ薄膜の生成を行い、その屈折率、膜厚の制御を行った。その結果、光を導波させるための条件:導波層の屈折率n_f>基板の屈折率n_s>カバーの屈折率n_cを満たす薄膜の生成に成功した。これにより電気光学結晶を基板とした導波路型光変調器の作製を可能にした。 |
| 抄録(英) | As application of EBEP (Electron-Beam-Excited Plasma) apparatus that has remarkable characteristics of plasma processing control, we try to make many kinds of thin films. For example, we made Nb_2O_5 in order to make a waveguide-type optical modulator. As a result, we successed to make film of the qualification: refractive index of a wavegide layer n_f> refractive index of a base n_s> refractive index of cover n_c. Therefore, it become possible to establish waveguide-type modulator of electro-optical crystal. |
| キーワード(和) | EBEP装置 / 五酸化ニオブ薄膜 / 光導波路 / 放電電流 / 加速電圧 |
| キーワード(英) | EBEP Appratus / Nb_2O_5 film / Optical waveguide / Discharge current / Accelating voltage |
| 資料番号 | CPM99-1 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 1999/5/20(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 電子ビーム励起プラズマによる光導波路用五酸化ニオブ薄膜の特性 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characteristics of Nb_2O_5 film for optical wave gide by Electron-Beam-Excited Plasma |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | EBEP装置 / EBEP Appratus |
| キーワード(2)（和/英） | 五酸化ニオブ薄膜 / Nb_2O_5 film |
| キーワード(3)（和/英） | 光導波路 / Optical waveguide |
| キーワード(4)（和/英） | 放電電流 / Discharge current |
| キーワード(5)（和/英） | 加速電圧 / Accelating voltage |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 鈴木 連 / Ren Suzuki |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 中部大学工学部 Collage of Engineering, Chubu University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 久保田 高徳 / Takanori Kubota |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 中部大学工学部 Collage of Engineering, Chubu University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 六鹿 太詞 / Taishi Mutuga |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 中部大学工学部 Collage of Engineering, Chubu University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 黄 振賢 / Shinken Koh |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 中部大学工学部 Collage of Engineering, Chubu University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 吉岡 敏太郎 / Toshitaro Yoshioka |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 中部大学工学部 Collage of Engineering, Chubu University |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 貴田 桂介 / Keisuke Kida |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 中部大学工学部 Collage of Engineering, Chubu University |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 馬場 清英 / Kiyohide Baba |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 中部大学工学部 Collage of Engineering, Chubu University |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 池澤 俊治郎 / Shunjiro Ikezawa |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 中部大学工学部 Collage of Engineering, Chubu University |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 西脇 彰 / Akira Nishiwaki |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 中部大学工学部 Collage of Engineering, Chubu University |
| 発表年月日 | 1999/5/20 |
| 資料番号 | CPM99-1 |
| 巻番号（vol） | vol.99 |
| 号番号（no） | 65 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |