講演名 1998/11/6
AlGaN/GaN HJFETの作製と評価
国弘 和明, 笠原 健資, 大久保 哲, 高橋 裕之, 大野 泰夫,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) AlGaN/GaN HJFETを作製し、素子の基本特性を確認するとともに電流ラグやキンクなど結晶や表面に起因する問題点を指摘した。用いたエピ結晶はMOVPEによってサファイヤ基板上に成長したものである。作製したHJFETは、ゲート長0.9μmでg_=52mS/mm、f_T=13GHz、f_=50GHz、BV_>100Vとマイクロ波帯高出力素子として有望な特性を示している。ただし、電流-電圧特性に十数秒の時定数を持つ電流ラグや顕著なキンクが観測された。これらの現象はGaNバッファ層内のトラップや表面準位によって引き起こされると考えられ、結晶の品質には改善の余地を残している。ゲート電流から見積もった衝突イオン化係数は、MCシミュレーションの低電界側外挿値と矛盾しておらず、破壊電界はGaAsに比べ5-6倍高いことが実験的に裏づけられた。
抄録(英) The preliminary performance and technical issues of AlGaN/GaN HJFETs grown by MOVPE on sapphire substrate are reported. The 0.9μm-gate devices exhibited the peak transconductance g_m of 52 mS/mm, the cut-off frequency f_T of 13 GHz, and the maximum oscillation frequency f_ of 50 GHz. The off-state breakdown voltage was over 100 V. While these characteristics are promising for microwave high-power application, significant current-lag and kink were observed in I-V characteristics. These undersirable phenomena are thought to be caused by deep traps in the GaN buffer layer and/or the surface. The ionization coefficients of GaN were determined from the gate current of HJFETs. They showed good agreement with MC simulation results and the critical field of GaN was higher than that of GaAs by about a factor of five.
キーワード(和) 窒化物半導体 / ヘテロ接合 / 高出力FET / マイクロ波 / 深い準位 / 衝突イオン化
キーワード(英) Nitride semiconductors / Heterojunction / Power FET / Microwave / Deep level / Impact ionization
資料番号 ED98-143,CPM98-146
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 1998/11/6(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) AlGaN/GaN HJFETの作製と評価
サブタイトル(和)
タイトル(英) Microwave Performance of AlGaN/GaN HJFETs
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 窒化物半導体 / Nitride semiconductors
キーワード(2)(和/英) ヘテロ接合 / Heterojunction
キーワード(3)(和/英) 高出力FET / Power FET
キーワード(4)(和/英) マイクロ波 / Microwave
キーワード(5)(和/英) 深い準位 / Deep level
キーワード(6)(和/英) 衝突イオン化 / Impact ionization
第 1 著者 氏名(和/英) 国弘 和明 / K. Kunihiro
第 1 著者 所属(和/英) NEC光・超高周波デバイス研究所
Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories, NEC Corporation
第 2 著者 氏名(和/英) 笠原 健資 / K. Kasahara
第 2 著者 所属(和/英) NEC光・超高周波デバイス研究所
Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories, NEC Corporation
第 3 著者 氏名(和/英) 大久保 哲 / S. Ohkubo
第 3 著者 所属(和/英) NEC光・超高周波デバイス研究所
Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories, NEC Corporation
第 4 著者 氏名(和/英) 高橋 裕之 / Y. Takahashi
第 4 著者 所属(和/英) NEC光・超高周波デバイス研究所
Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories, NEC Corporation
第 5 著者 氏名(和/英) 大野 泰夫 / Y. Ohno
第 5 著者 所属(和/英) NEC光・超高周波デバイス研究所
Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories, NEC Corporation
発表年月日 1998/11/6
資料番号 ED98-143,CPM98-146
巻番号(vol) vol.98
号番号(no) 386
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日