講演名 1998/11/6
高温動作GaN MESFET
吉田 清輝, 鈴木 譲,
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抄録(和) ガスソースMBE成長法により高品質のGaNエピタキシャル膜を作成した。更に、GaN MESFETを試作した。FETのオーミック電極にAl/Ti系材料を用い、ゲート電極にPt系材料を用いた。その結果、良好なFET特性が得られた。このFETの耐圧は80V以上である。高温加熱による耐久特性を調べた結果、400℃において1000時間の長時間加熱後もFET特性が劣化せず、安定に保持することが確認された。更に400℃で300時間通電加熱試験を行った結果、FETの電流値は全く変化せず安定していることが確認され、GaN MESFETの高温デバイスとしての高い信頼性が実証された。
抄録(英) A high quality GaN was grown using a gas-source molecular beam epitaxy(GSMBE). We fabricated GaN metal semiconductor field-effect transistor(MESFET). The thermal stress test of GaN MESFET at 400℃ was investigated. That is, GaN MESFET continued to operate after heating at 400℃ for 1000h. A life of FET at 400℃ was also examined by continuously current-injection at 400℃. We confirmed that the FET performance did not change at 400℃ for 300h. It was thus confirmed that GaN MESFET has a high reliability for high temperature operation.
キーワード(和) GaN / GSMBE / MESFET / 高温動作 / ショットキー / オーミック
キーワード(英) GaN / GSMBE / MESFET / high temperature operation / Schottky / ohmic
資料番号 ED98-142,CPM98-145
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 1998/11/6(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 高温動作GaN MESFET
サブタイトル(和)
タイトル(英) High temperature operation GaN MESFET
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) GaN / GaN
キーワード(2)(和/英) GSMBE / GSMBE
キーワード(3)(和/英) MESFET / MESFET
キーワード(4)(和/英) 高温動作 / high temperature operation
キーワード(5)(和/英) ショットキー / Schottky
キーワード(6)(和/英) オーミック / ohmic
第 1 著者 氏名(和/英) 吉田 清輝 / Seikoh Yoshida
第 1 著者 所属(和/英) 古河電気工業(株)横浜研究所
Yokohama R&D Laboratories, The Furukawa Electric Co., Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 鈴木 譲 / Joe Suzuki
第 2 著者 所属(和/英) 古河電気工業(株)横浜研究所
Yokohama R&D Laboratories, The Furukawa Electric Co., Ltd.
発表年月日 1998/11/6
資料番号 ED98-142,CPM98-145
巻番号(vol) vol.98
号番号(no) 386
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日