講演名 | 1998/11/6 大気圧MOVPE成長AlGaNにおける気相反応とその量子化学的検討 松本 功, 阿久津 仲男, 徳永 裕樹, 立花 明知, |
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抄録(和) | 大気圧成長MOVPEにおけるTMAとNH_3の気相反応はAlの取り込みのみならずGaの取り込みをも阻害する。この機構を解明するためにTMA-NH_3の反応について量子化学的計算を検討した。計算結果によるとTMA-NH_3の組み合わせでは他の組み合わせに比べてメチル脱離反応の障壁が低く、ポリマー形成につながる中間体が形成されやすいことが分かった。報告ではモデルのベースとなる実験結果を中心に、考えられる反応過程について紹介する。 |
抄録(英) | Gas phase reaction between TMA and NH_3 blocks the incorporation of Ga into the film as well as Al in atmospheric pressure MOVPE. In order to elucidate this mechanism, we have investigated the reaction between TMA and NH_3 in terms of the quantum chemical calculations. According to the calculations, the barrier of methyl elimination in the TAM-NH_3 system is low as compared with other systems, and therefore it is easy to form the intermediate leading to the propagation of polymer in the TMA-NH_3-TMG system. In this report, we introduce the proposed reaction process based on the experimental results for model of the TMA-NH_3 system. |
キーワード(和) | 大気圧MOVPE / III族窒化物半導体 / 寄生反応 / AlGaN / TMA / 量子化学計算 |
キーワード(英) | APMOVPE / III-Nitride semiconductors / parasitic reaction / AlGaN / TMA / quantum chemical calculations |
資料番号 | ED98-140,CPM98-143 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 1998/11/6(から1日開催) |
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講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 大気圧MOVPE成長AlGaNにおける気相反応とその量子化学的検討 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Quantum Chemical Calculations of Gas Phase Reaction of Al(CH_3)_3 and NH_3 in Atmospheric Pressure MOVPE |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 大気圧MOVPE / APMOVPE |
キーワード(2)(和/英) | III族窒化物半導体 / III-Nitride semiconductors |
キーワード(3)(和/英) | 寄生反応 / parasitic reaction |
キーワード(4)(和/英) | AlGaN / AlGaN |
キーワード(5)(和/英) | TMA / TMA |
キーワード(6)(和/英) | 量子化学計算 / quantum chemical calculations |
第 1 著者 氏名(和/英) | 松本 功 / Koh Matsumoto |
第 1 著者 所属(和/英) | 日本酸素(株)つくば研究所 NIPPON SANSO Corp.Tsukuba Lab. |
第 2 著者 氏名(和/英) | 阿久津 仲男 / Nakao Akutsu |
第 2 著者 所属(和/英) | 日本酸素(株)つくば研究所 NIPPON SANSO Corp.Tsukuba Lab. |
第 3 著者 氏名(和/英) | 徳永 裕樹 / Hiroki Tokunaga |
第 3 著者 所属(和/英) | 日本酸素(株)つくば研究所 NIPPON SANSO Corp.Tsukuba Lab. |
第 4 著者 氏名(和/英) | 立花 明知 / Akitomo Tachibana |
第 4 著者 所属(和/英) | 京都大学工学部機械物理工学専攻攻 Dept.Eng.Physics and Mechanics, Kyoto University |
発表年月日 | 1998/11/6 |
資料番号 | ED98-140,CPM98-143 |
巻番号(vol) | vol.98 |
号番号(no) | 386 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 7 |
発行日 |