| 講演名 | 1998/10/29 クラスター堆積法を利用したFeグラニュラー磁性体の新規合成 濱欠 裕貴, 石井 清, |
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| 抄録(和) | 粒径が数nmの粒子から構成されるグラニュラー物質のシステマティックな合成のためには、独立に生成したクラスターを堆積させることが有用と考えられる。筆者らは、クラスター堆積に適したホローカソードスパッタ型クラスター源を2機用い、クラスターとマトリクス物質の蒸気を混合した後に基板に堆積する方法を考案した。その方法により、平均粒径が5nmのFeのクラスターとAg蒸気の混合堆積を行い、濃度を制御したFeグラニュラー薄膜の作製について調べた。その結果、Feクラスターの濃度はAg蒸気の量を変化させることにより厳密に行え、緻密でクラスターの分散性が良いグラニュラー薄膜が作製できることを確認した。 |
| 抄録(英) | The deposition of clusters onto substrate, so-called cluster deposition method, has great potential in the formation of granular materials where small clusters are embedded in a different matrix. The authors have developed a new method for the cluster deposition. By the method Fe clusters of 5 nm and Ag vapor were co-deposited on the substrate. The Fe granular films having metallic luster and strong adhesin were obtained under controlling the concentration of Fe clusters. In the low concentration Fe clusters were confirmed to be well dispersed in Ag matrix.. |
| キーワード(和) | ガスフロースパッタ法 / クラスター / クラスター堆積 / Fe薄膜 / グラニュラー磁性体 |
| キーワード(英) | gas-flow-sputtering / cluster / cluster deposition / iron film / granular magnetic material |
| 資料番号 | CPM98-116 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 1998/10/29(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | クラスター堆積法を利用したFeグラニュラー磁性体の新規合成 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Synthesis of Fe granular magnetic materials by the cluster deposition method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ガスフロースパッタ法 / gas-flow-sputtering |
| キーワード(2)（和/英） | クラスター / cluster |
| キーワード(3)（和/英） | クラスター堆積 / cluster deposition |
| キーワード(4)（和/英） | Fe薄膜 / iron film |
| キーワード(5)（和/英） | グラニュラー磁性体 / granular magnetic material |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 濱欠 裕貴 / Hiroki Hamakake |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 宇都宮大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering Faculty of Engineering, Utsunomiya University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 石井 清 / Kiyoshi Ishii |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 宇都宮大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering Faculty of Engineering, Utsunomiya University |
| 発表年月日 | 1998/10/29 |
| 資料番号 | CPM98-116 |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 376 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |