| 講演名 | 1998/10/29 スパッタ法による二酸化チタン薄膜の形成 宮入 智, 番場 教子, 深海 龍夫, |
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| 抄録(和) | 本研究では独自のマグネトロンスパッタ装置を置いて、低温で様々なアナターゼ型二酸化チタン(TiO_2)薄膜を作製することに成功した。TiO_2薄膜の表面に白金をコーティングすると、大幅に光触媒効果が向上した。TiO_2薄膜の膜厚が変化すると、光触媒効果に影響が認められ、この現象を溶液-TiO_2薄膜接触における空乏層幅との関連から検討した。さらに可視光感受性を向上させるために、TiO_2と五酸化バナジウム(V_2O_5)との固溶体を作製して分光スペクトルを観測し、光学的バンドギャップが変化することを確認した。 |
| 抄録(英) | In this study we have successfully formed various anatase TiO_2 films by self-developed tripole magnetron sputtering system at relatively low temperatures. The photocatalytic activity of anatase TiO_2 film was improved by Pt-coating. Thickness dependence of photocatalytic activity of TiO_2 film investigated based on the relation between threshold thickness in activities and depletion layer width resulted from TiO_2-to-solution contact. In order to improve the photocatalytic activity in visible light, A_2O_5 film was deposited, showing a slightly decrease of its band gap width. |
| キーワード(和) | マグネトロンスパッタ / アナターゼ型TiO_2 / 膜厚 / 光学的バンドギャップ |
| キーワード(英) | magnetron sputtering / anatase TiO_2 / film thickness / optical band gap width |
| 資料番号 | CPM98-114 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 1998/10/29(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | スパッタ法による二酸化チタン薄膜の形成 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | TiO_2 thin film by sputtering |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | マグネトロンスパッタ / magnetron sputtering |
| キーワード(2)（和/英） | アナターゼ型TiO_2 / anatase TiO_2 |
| キーワード(3)（和/英） | 膜厚 / film thickness |
| キーワード(4)（和/英） | 光学的バンドギャップ / optical band gap width |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 宮入 智 / S Miyairi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部電気電子工学科 Department of Electric and Electrnic engineering, Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 番場 教子 / N. Bamba |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部電気電子工学科 Department of Electric and Electrnic engineering, Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 深海 龍夫 / T. Fukami |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部電気電子工学科 Department of Electric and Electrnic engineering, Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 発表年月日 | 1998/10/29 |
| 資料番号 | CPM98-114 |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 376 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |