| 講演名 | 1995/8/4 Al-Y合金薄膜表面酸化層のキャラクタリゼーション 村上 佳隆, 武山 真弓, 野矢 厚, 佐々木 克孝, |
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| 抄録(和) | Al-Y合金表面に形成される表面酸化層のキャラクタリゼーションを、合金組成を変えて検討した。Al-richな合金組成では、Alの選択酸化によって形成されるAl_2O_3表面層が、その内部にはY_2O_3が形成されるにも拘わらず保護性酸化膜となることが知られた。合金組成がY-richになるにつれて、酸化はY_2O_3の形成で支配されるようになり、Alは表面近傍でのみ酸化され、酸化層内部ではむしろ還元されていた。これらの挙動は、AlとYの熱力学データと酸化のkineticsにより説明された。 |
| 抄録(英) | Characterization of surface oxidized layer formed on Al-Y alloy have been examined with varying the alloy composition. In the alloy with an Al-rich composition, the surface Al_2O_3 layer exhibits the ability of self-passivation despite of the Y_2O_3 formation in the layer. On the contrary, surface oxidized layers on the Y-rich alloys are dominated by the oxidation behavior of Y, resulting in the restricted oxidation of Al only near the surface. The behavior of the oxidation is successfully interpreted due to the thermal properties and kinetics of the oxidation of Al and Y. |
| キーワード(和) | Al-Y合金 / 表面酸化層 / 選択酸化 / 保護性酸化膜 / 酸化反応 |
| キーワード(英) | Al-Y alloy / surface oxidized layer / preferential oxidation / protective oxide film / oxidation reaction |
| 資料番号 | |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 1995/8/4(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Al-Y合金薄膜表面酸化層のキャラクタリゼーション |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characterization of surface oxidized layer on Al-Y alloy films |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | Al-Y合金 / Al-Y alloy |
| キーワード(2)（和/英） | 表面酸化層 / surface oxidized layer |
| キーワード(3)（和/英） | 選択酸化 / preferential oxidation |
| キーワード(4)（和/英） | 保護性酸化膜 / protective oxide film |
| キーワード(5)（和/英） | 酸化反応 / oxidation reaction |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 村上 佳隆 / Yoshitaka Murakami |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 北見工業大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Kitami Institute of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 武山 真弓 / Mayumi Takeyama |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 北見工業大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Kitami Institute of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 野矢 厚 / Atsushi Noya |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 北見工業大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Kitami Institute of Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 佐々木 克孝 / Katsutaka Sasaki |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 北見工業大学工学部機能材料工学科 Department of Materials Science, Faculty of Engineering, Kitami Institute of Technology |
| 発表年月日 | 1995/8/4 |
| 資料番号 | |
| 巻番号（vol） | vol.95 |
| 号番号（no） | 204 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |