講演名 1995/5/19
MOVPE法によるGaAs基板上InP成長
高野 泰, 佐々木 輝夫, 永木 康文, 桑原 憲弘, 福家 俊郎, 今井 哲二,
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抄録(和) MOVPE法を用いてGaAs基板上にInPを二段階成長させた。InPエピ層の品質は初期層の成長においてV/III比を低くするほどよくなった。InPエピ層の様子を断面TEM、平面TEM、X線回折、PLを用いて評価した。400℃でのV/III比を20に下げたところ表面はより平坦になり、残留歪の値は小さくなった。また平面TEMのモアレ縞の様子から、場所による歪のゆらぎはV/III比を小さくするほど小さくなることが解った。
抄録(英) Layers of InP grown on GaAs substrates by a two step growth using metalorganic vapor phase epitaxy have been investigated. The quality of InP layers on GaAs substrates was improved by growing an initial layer at a low V/III ratio. The InP layers were characterized by transmission electron microscopy. By lowering the V/III ratio to 20 during the growth of initial layers at 400℃, the surface became smooth and the residual strain of initial layers was reduced.
キーワード(和) 格子不整合 / InP / 二段階成長 / 有機金属気相成長 / 透過電子顕微鏡観察
キーワード(英) lattice mismatch / indium phosphide / two-step growth / MOVPE / TEM
資料番号
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 1995/5/19(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) MOVPE法によるGaAs基板上InP成長
サブタイトル(和)
タイトル(英) Hetero-epitaxial growth of InP on GaAs substrates by organometallic vapor phase epitaxy
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 格子不整合 / lattice mismatch
キーワード(2)(和/英) InP / indium phosphide
キーワード(3)(和/英) 二段階成長 / two-step growth
キーワード(4)(和/英) 有機金属気相成長 / MOVPE
キーワード(5)(和/英) 透過電子顕微鏡観察 / TEM
第 1 著者 氏名(和/英) 高野 泰 / Y. Takano
第 1 著者 所属(和/英) 静岡大学工学部
Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ.
第 2 著者 氏名(和/英) 佐々木 輝夫 / T. Sasaki
第 2 著者 所属(和/英) 静岡大学工学部
Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ.
第 3 著者 氏名(和/英) 永木 康文 / Y. Nagaki
第 3 著者 所属(和/英) 静岡大学工学部
Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ.
第 4 著者 氏名(和/英) 桑原 憲弘 / N. Kuwahara
第 4 著者 所属(和/英) 静岡大学工学部
Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ.
第 5 著者 氏名(和/英) 福家 俊郎 / S. Fuke
第 5 著者 所属(和/英) 静岡大学工学部
Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ.
第 6 著者 氏名(和/英) 今井 哲二 / T. Imai
第 6 著者 所属(和/英) 明星大学工学部
Meisei Univ.
発表年月日 1995/5/19
資料番号
巻番号(vol) vol.95
号番号(no) 40
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日