講演名 | 1995/5/19 MOVPE法によるGaAs基板上InP成長 高野 泰, 佐々木 輝夫, 永木 康文, 桑原 憲弘, 福家 俊郎, 今井 哲二, |
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抄録(和) | MOVPE法を用いてGaAs基板上にInPを二段階成長させた。InPエピ層の品質は初期層の成長においてV/III比を低くするほどよくなった。InPエピ層の様子を断面TEM、平面TEM、X線回折、PLを用いて評価した。400℃でのV/III比を20に下げたところ表面はより平坦になり、残留歪の値は小さくなった。また平面TEMのモアレ縞の様子から、場所による歪のゆらぎはV/III比を小さくするほど小さくなることが解った。 |
抄録(英) | Layers of InP grown on GaAs substrates by a two step growth using metalorganic vapor phase epitaxy have been investigated. The quality of InP layers on GaAs substrates was improved by growing an initial layer at a low V/III ratio. The InP layers were characterized by transmission electron microscopy. By lowering the V/III ratio to 20 during the growth of initial layers at 400℃, the surface became smooth and the residual strain of initial layers was reduced. |
キーワード(和) | 格子不整合 / InP / 二段階成長 / 有機金属気相成長 / 透過電子顕微鏡観察 |
キーワード(英) | lattice mismatch / indium phosphide / two-step growth / MOVPE / TEM |
資料番号 | |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 1995/5/19(から1日開催) |
開催地(和) | |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | MOVPE法によるGaAs基板上InP成長 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Hetero-epitaxial growth of InP on GaAs substrates by organometallic vapor phase epitaxy |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 格子不整合 / lattice mismatch |
キーワード(2)(和/英) | InP / indium phosphide |
キーワード(3)(和/英) | 二段階成長 / two-step growth |
キーワード(4)(和/英) | 有機金属気相成長 / MOVPE |
キーワード(5)(和/英) | 透過電子顕微鏡観察 / TEM |
第 1 著者 氏名(和/英) | 高野 泰 / Y. Takano |
第 1 著者 所属(和/英) | 静岡大学工学部 Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ. |
第 2 著者 氏名(和/英) | 佐々木 輝夫 / T. Sasaki |
第 2 著者 所属(和/英) | 静岡大学工学部 Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ. |
第 3 著者 氏名(和/英) | 永木 康文 / Y. Nagaki |
第 3 著者 所属(和/英) | 静岡大学工学部 Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ. |
第 4 著者 氏名(和/英) | 桑原 憲弘 / N. Kuwahara |
第 4 著者 所属(和/英) | 静岡大学工学部 Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ. |
第 5 著者 氏名(和/英) | 福家 俊郎 / S. Fuke |
第 5 著者 所属(和/英) | 静岡大学工学部 Department of Electric and Electronics, Faculty of Engineering, Shizuoka Univ. |
第 6 著者 氏名(和/英) | 今井 哲二 / T. Imai |
第 6 著者 所属(和/英) | 明星大学工学部 Meisei Univ. |
発表年月日 | 1995/5/19 |
資料番号 | |
巻番号(vol) | vol.95 |
号番号(no) | 40 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 5 |
発行日 |