| 講演名 | 1997/10/31 スパッタガス圧によるバリウムフェライト薄膜の組成変化の機構 神戸 明宏, 鈴木 英佐, 星 陽一, |
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| 抄録(和) | 本研究ではバリウムフェライトなどのスパッタにおいて、スパッタ膜の組成を変化させる原因の一つと考えられた、スパッダガスとスパッタ粒子との衝突・散乱過程について、計算機シミュレーションを用いて詳細に検討した。その結果 (1) BaとFeのように質量に大きな差異がある複数の元素からなる物質をスパッタする場合、スパッタ粒子が、基板に到達するまでの間にスパッタガスとの衝突・散乱によって、基板位置や、スパッタガス圧に依存した、かなり大きな組成の変化が起こる可能性があること、(2) スペッタ粒子とスパッタガスとの衝突・散乱による組成ずれは、基板に到達するスパッタ粒子の数が、スパッタ粒子の質量に強く依存して変化するために起こること。(3) スパッタガス圧やスパッタガスの種類を変えて膜を作製する場合、スパッタガスとの衝突により、元素により基板に到達する数が大きく変化する可能性があることを十分考慮して、膜を作製する必要があること。等を明らかにした。 |
| 抄録(英) | In this study, we used computer simulation to investigate changes in the composition of hexagonal barium ferrite films deposited by sputtering. The iron content in the film deposited by a facing target sputtering increased as the sputtering gas pressure increased and reached a maximum value at a certain gas pressure. These changes in the film composition were explained as follows; sputtered particles scatter when they collide with sputtering gas atoms, and this scattering changes a ratio of the particles reaching the substrate. When the substrate was located to the side of the target as in a facing target sputtering system, this scattering resulted in an increase in the amount of sputtered particles arriving at the substrate, although too much scattering caused the amount to decrease. Since this gas scattering depends significantly on the atomic mass of the sputtered particles, the gas pressure dependence of the amount of the iron atoms arriving differs considerably from that of the amount of barium atoms arriving. This difference leads to the changes in film composition. |
| キーワード(和) | 計算機シミュレーション / スパッ夕 / 組成ずれ / バリウムフェライト |
| キーワード(英) | computer simulation / composition change by gas scattering / barium ferrite / sputter-deposition processes |
| 資料番号 | CPM97-136 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 1997/10/31(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | スパッタガス圧によるバリウムフェライト薄膜の組成変化の機構 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Mechanism of the composition changes with sputtering gas pressure in the deposition of barium ferrite films by sputtering |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 計算機シミュレーション / computer simulation |
| キーワード(2)（和/英） | スパッ夕 / composition change by gas scattering |
| キーワード(3)（和/英） | 組成ずれ / barium ferrite |
| キーワード(4)（和/英） | バリウムフェライト / sputter-deposition processes |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 神戸 明宏 / Akihiro Kanbe |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 工学部 Tokyo Institute of Polytechnics |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 鈴木 英佐 / Eisuke Suzuki |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 工学部 Tokyo Institute of Polytechnics |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 星 陽一 / Yoichi Hoshi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工芸大学 工学部 Tokyo Institute of Polytechnics |
| 発表年月日 | 1997/10/31 |
| 資料番号 | CPM97-136 |
| 巻番号（vol） | vol.97 |
| 号番号（no） | 355 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |