講演名 | 1997/10/9 InAsP/InAlGaAs系量子井戸のGSMBE成長と評価 阿南 隆由, 徳留 圭一, 山田 みつき, 管生 繁男, |
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抄録(和) | GSMBE法を用いて高品質な歪InAsPを成長し、そのバンド構造を明らかにした。InAsP/InP伝導帯バンド不連続比は、従来報告されている値(0.75)よりもかなり小さく約0.35程度であった。そこで光加入者系1.3μm帯高温特レーザ用の新材料系としてInAsP/InAlGaAs量子井戸構造を提案し、InAlGaAsバリア層のAl組成を適切に選ぶことによりタイプI型超格子構造が実現できることを実証した。また、量子井戸の高品質化のため、InPスペーサ層導入と、GSMBE成長後のRTAを行い、大幅なPL強度改善およびLDの低開化を実現した。幅広ストライプレーザによる評価では、高温において良好なLD特性(T_o=116K)を実現した。 |
抄録(英) | High quality strained InAsP was grown using GSMBE and the band structure was determined. The conduction band discontinuity ratio of InAsP/InP heterostructure was about 0.35 contrary to the reported value of 0.75. We proposed a new InAsP/InAlGaAs material system with type I superlattice suitable for high performance LD of 1.3μm optical subscriber system. The crystal quality was improved by introducing a InP spacer layer and RTA process. High characteristic temperature of 116K was achieved with this material system. |
キーワード(和) | InAsP / InAlGaAs / 伝導帯バンド不運続比 / 光加入者系 / RTA / 特性温度 |
キーワード(英) | InAsP / InAlGaAs / band offset / optical subscriber system / RTA / characteristic temperature |
資料番号 | CPM97-106-115 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 1997/10/9(から1日開催) |
開催地(和) | |
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幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | InAsP/InAlGaAs系量子井戸のGSMBE成長と評価 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | GSMBE growth and Characterization of InAsP/InAlGaAs MQWs |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | InAsP / InAsP |
キーワード(2)(和/英) | InAlGaAs / InAlGaAs |
キーワード(3)(和/英) | 伝導帯バンド不運続比 / band offset |
キーワード(4)(和/英) | 光加入者系 / optical subscriber system |
キーワード(5)(和/英) | RTA / RTA |
キーワード(6)(和/英) | 特性温度 / characteristic temperature |
第 1 著者 氏名(和/英) | 阿南 隆由 / Takayoshi Anan |
第 1 著者 所属(和/英) | NEC 光・超高周波デバイス研究所 Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories, NEC Corporation |
第 2 著者 氏名(和/英) | 徳留 圭一 / Keiichi Tokutome |
第 2 著者 所属(和/英) | NEC 光・超高周波デバイス研究所 Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories, NEC Corporation |
第 3 著者 氏名(和/英) | 山田 みつき / Mitsuki Yamada |
第 3 著者 所属(和/英) | NEC 光・超高周波デバイス研究所 Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories, NEC Corporation |
第 4 著者 氏名(和/英) | 管生 繁男 / Sigeo Sugou |
第 4 著者 所属(和/英) | NEC 光・超高周波デバイス研究所 Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories, NEC Corporation |
発表年月日 | 1997/10/9 |
資料番号 | CPM97-106-115 |
巻番号(vol) | vol.97 |
号番号(no) | 307 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 8 |
発行日 |