| 講演名 | 1993/9/21 保護膜を施した結合ストリップ線路の特性解析 山口 省一郎, 厚木 和彦, 李 可人, |
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| 抄録(和) | モノリシックマイクロ波集積回路(MMIC)においてデバイスや線路を保護するために酸化膜などの保護誘電体膜を施す場合がある。また、半導体チップ表面に受動回路素子を多層誘電体膜で形成した多層化MMICも提案されている。このようなMMICにおいて伝送線路を利用する際、保護膜(誘電体膜)が伝送線路の特性に与える影響を十分に検討する必要がある。本報告では、保護膜を施した結合マシクロストリップ線路を部分境界積分方程式法に基づいて解析法し、保護膜が伝送特性に与える影響について数値解析した。その結果、ストリップ導体が厚く、かつ結合ストリップ導体間隔が小さくなるにつれ、保護膜の影響を強く受けることが分かった。 |
| 抄録(英) | Protective films such as SiO_2 are usually used to the protection of the devices and the transmiission lines in monolithic microwave integrated circuits(MMIC′s).And thin polymide films on GaAs substrate are also proposed to construct the multi- layered MMIC′s.These protective films(dielectric films)have a stro ng influence on the characteristics of the coupled microstrip lines used in MMIC′s,and the influence need to be analyzed for the accurate design.In this paper,we present an analysis of the coupled microstrip lines covered with the protective film.The analysis method applied the partial boundary integral equation method(PBIEM).The numerical results demonstlate that the protective films give a strong influence on the characteristics of the coupled lines when the conducting stripsare thick and the gap between the two strips are small. |
| キーワード(和) | モノリシックマイクロ波集積回路 / 結合マイクロストリップ線路 / 保護膜 / 積分方程式 / 部分境界積分方程式法 |
| キーワード(英) | MMIC / coupled microstrip line / protective film / integral equation / partial boundary integral equation method |
| 資料番号 | SAT93-44,MW93-58 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SAT |
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| 開催期間 | 1993/9/21(から1日開催) |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Satellite Telecommunications (SAT) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 保護膜を施した結合ストリップ線路の特性解析 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characterization of Coupled Microstrip Lines with protective Film |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | モノリシックマイクロ波集積回路 / MMIC |
| キーワード(2)（和/英） | 結合マイクロストリップ線路 / coupled microstrip line |
| キーワード(3)（和/英） | 保護膜 / protective film |
| キーワード(4)（和/英） | 積分方程式 / integral equation |
| キーワード(5)（和/英） | 部分境界積分方程式法 / partial boundary integral equation method |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 山口 省一郎 / Shoichiro Yamaguchi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 電気通信大学電子工学科 The University of Electro-communications |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 厚木 和彦 / Kazuhiko Atsuki |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 電気通信大学電子工学科 The University of Electro-communications |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 李 可人 / Keren Li |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 電気通信大学電子工学科 The University of Electro-communications |
| 発表年月日 | 1993/9/21 |
| 資料番号 | SAT93-44,MW93-58 |
| 巻番号（vol） | vol.93 |
| 号番号（no） | 242 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |