| 講演名 | 1999/3/16 1GHzまでの磁界中におかれた平板への周囲電磁界分布の影響 堀田 幸雄, 菅 維周, 仁田 周一, |
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| 抄録(和) | 電子機器のデジタル化が進み、アナログ回路とデジタル回路が高密度に実装されるだけでなく、取り扱う周波数は高周波化し、コンピュー夕機器に直接RF回路が接続され、通信に利用される時代になってきた。このような環境にあって、電子機器のイントラシステム干渉 (装置内の相互干渉) の問題はますます深刻になりつつある。本研究ではシールド材料や磁性材料、誘電材料の平板が電磁界中に置かれたときに、近傍の電磁界がどのように変化するかを定量的に捉え、電子機器内部の電磁界分布を制御する設計の一助とすることを試みる。 |
| 抄録(英) | With the population of electronic equipments, many digital and analog apparatuses are being installed closely in the same space and the same equipment. In the installation environment mentioned in the above, mutual electromagnetic interference between equipments become severe problems. In this study, the influences of shielding material, magnetic material and dielectric material on electromagnetic field closed to these materials are quantitatively discussed as first step to enable electromagnetic field control inside the equipments. |
| キーワード(和) | 内部干渉 / 相互干渉 / シールド材料 / 電磁界分布 |
| キーワード(英) | intra-system interference / inter-system interference / shielding material / electromagnetic field distribution |
| 資料番号 | EMCJ98-116 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMCJ |
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| 開催期間 | 1999/3/16(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electromagnetic Compatibility (EMCJ) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 1GHzまでの磁界中におかれた平板への周囲電磁界分布の影響 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | The influence of a plane placed in the 1GHz magnetic field on the electromagnetic field distribution |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 内部干渉 / intra-system interference |
| キーワード(2)（和/英） | 相互干渉 / inter-system interference |
| キーワード(3)（和/英） | シールド材料 / shielding material |
| キーワード(4)（和/英） | 電磁界分布 / electromagnetic field distribution |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 堀田 幸雄 / Yukio HOTTA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 株式会社トーキンEMCエンジニアリング EMCテクニカルセンター Tokin EMC Engineering Co., Ltd. EMC Technical Center |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 菅 維周 / Isyu KAN |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 株式会社トーキンEMCエンジニアリング EMCテクニカルセンター Tokin EMC Engineering Co., Ltd. EMC Technical Center |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 仁田 周一 / Shuichi NITTA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京農工大学工学部 Tokyo University of Agriculture and Technology |
| 発表年月日 | 1999/3/16 |
| 資料番号 | EMCJ98-116 |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 661 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 7 |
| 発行日 | |