講演名 2000/6/30
US2000-26 / EMD2000-22 / CPM2000-37 / OME2000-32 ウェットプロセス交互積層による誘電体多層膜の形成
伊藤 孝浩, 白鳥 世明,
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抄録(和) 分子レベルでの薄膜作製技術として注目を集めている交互吸着法は異なった電荷をもつ電解質のポリマー、コロイドなどの溶液に基板を交互に浸すことによって薄膜を成長させる方法である。一方で近年開発された表面ゾルゲル法は今までのゾルゲル法とは異なり、基板表面での金属アルコキシドの重合反応によって薄膜をナノスケールオーダーで逐次積層化を行う方法である。本研究ではチタンブトキシドの化学吸着、リンス、加水分解、乾燥の4行程を自動浸漬装置を用いてQCM上への逐次吸着を試みた。またQCM上に累積させた薄膜をAFMで観察した。さらにポリスチレン基板上に交互吸着膜、酸化チタンゲル膜を交互に積層させ、断面構造をTEMで観察した。
抄録(英) Sequential adsorption process was molecular level fabrication of ultra-thin film formed by immersing substrate in various polyelectrolytes or colloids solution with different polarity of charge. On the otherhand, Surface sol-gel process was the fabricaton of nano-level metal oxide ultrathin film by means of stepwise adsorption of alkoxides. In this study, titanium butoxide deposited onto the electrode of QCM by operating 4 steps of chemisorption, rinse, hydrolysis, drying. Metal alkoxide was deposited evenly onto rough substrate by observing surface of thin film deposited onto QCM by AFM. Moreover, hetero structure of organic/non-organic was successfully fabricated onto polystylene(PS) substrate. The cross-sectional image of this hetero structure was observed by TEM.
キーワード(和) 表面ゾルゲル法 / 電解質ポリマー / 交互吸着法 / 多層膜
キーワード(英) surface sol-gel process / polyelectrolyte / sequential adsorption process / multilayer
資料番号 US2000-26,EMD2000-22,CPM2000-37,OME2000-32
発行日

研究会情報
研究会 EMD
開催期間 2000/6/30(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electromechanical Devices (EMD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) US2000-26 / EMD2000-22 / CPM2000-37 / OME2000-32 ウェットプロセス交互積層による誘電体多層膜の形成
サブタイトル(和)
タイトル(英) The fabrication of dielectricsubstance multiplayer by wet process & Sequential adsorption method
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 表面ゾルゲル法 / surface sol-gel process
キーワード(2)(和/英) 電解質ポリマー / polyelectrolyte
キーワード(3)(和/英) 交互吸着法 / sequential adsorption process
キーワード(4)(和/英) 多層膜 / multilayer
第 1 著者 氏名(和/英) 伊藤 孝浩 / Takahiro Ito
第 1 著者 所属(和/英) 慶應義塾大学理工学部物理情報工学科
Keio University
第 2 著者 氏名(和/英) 白鳥 世明 / Seimei Shiratori
第 2 著者 所属(和/英) 慶應義塾大学理工学部物理情報工学科
Keio University
発表年月日 2000/6/30
資料番号 US2000-26,EMD2000-22,CPM2000-37,OME2000-32
巻番号(vol) vol.100
号番号(no) 165
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日