| 講演名 | 1994/8/19 面内磁化形磁気光学結晶(LuNdBi)_3(FeAl)_5O_<12>のエッチングによる光損失増大の抑制 横井 秀樹, 水本 哲弥, 小堺 一樹, 内藤 喜之, |
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| 抄録(和) | 非相反移相効果を用いた導波路形光アイソレータは、位相整合や複雑な磁化方向の制御が不要であるという利点を持つ。この素子を実現するために開発した磁性ガーネット膜(LuNdBi)_3(FeAl)_5O_12>は、Arスパッタエッチングによりリブ導波路を形成すると伝搬損失が著しく増加する。本報告では、エッチングによる損失増加の原因ならびに損失増加を抑制するためのリブ導波路製作過程について検討したので、これについて述べる。また、新しい過程に基づいて直線リブ導波路、及び本アイソレータの構成要素であるテーパ状分岐結合器を製作し、その特性を評価したので、併せて報告する。 |
| 抄録(英) | A waveguide optical isolator based on nonreciprocal phase shift has the advantage of not needing phase matching and complicated magnetization control.Magnetic garnet films of composition(LuNdBi)_ 3(FeAl)_5O_12>(LNB)for this isolator exhibit large propagation loss when rib waveguide is formed on the film using Ar sputter- etching process.In this paper,increase in the optical absorption loss of LNB films is discussed.Fabrication process of rib waveguides is investigated to suppress the loss increase.Straight.- rib waveguides and branching device,a component of the isolator, are fabricated and examined. |
| キーワード(和) | 光アイソレータ / リブ導波路 / X線光電子分光法 / 反応性イオンエッチング |
| キーワード(英) | optical isolator / rib waveguide / X-ray photoelectron spectroscopy / reactive ion etching |
| 資料番号 | EMD94-40,CPM94-54,OPE94-49 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD |
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| 開催期間 | 1994/8/19(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electromechanical Devices (EMD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 面内磁化形磁気光学結晶(LuNdBi)_3(FeAl)_5O_<12>のエッチングによる光損失増大の抑制 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Suppression of Increase in Optical Loss of Magnetooptical Crystal (LuNdBi)_3(FeAl)_5O_12> due to sputter-etching |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光アイソレータ / optical isolator |
| キーワード(2)（和/英） | リブ導波路 / rib waveguide |
| キーワード(3)（和/英） | X線光電子分光法 / X-ray photoelectron spectroscopy |
| キーワード(4)（和/英） | 反応性イオンエッチング / reactive ion etching |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 横井 秀樹 / Hideki Yokoi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京工業大学工学部 Faculty of Engineering,Tokyo Institute of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 水本 哲弥 / Tetsuya Mizumoto |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京工業大学工学部 Faculty of Engineering,Tokyo Institute of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 小堺 一樹 / Kazuki Kozakai |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工業大学工学部 Faculty of Engineering,Tokyo Institute of Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 内藤 喜之 / Yoshiyuki Naito |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京工業大学工学部 Faculty of Engineering,Tokyo Institute of Technology |
| 発表年月日 | 1994/8/19 |
| 資料番号 | EMD94-40,CPM94-54,OPE94-49 |
| 巻番号（vol） | vol.94 |
| 号番号（no） | 195 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
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