| 講演名 | 1994/7/25 Pd接点の接触抵抗特性に対する閉成時摺動の影響 陳 専科, 柄沢 一成, 沢 孝一郎, |
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| 抄録(和) | 本研究では、リレー接点の閉成時摺動(wiping)が接触抵抗に与える影響を調べるため、ステッピングモータによる摺動装置を用いて、Pd接点について、0.1mmから1.0mmまでの各種摺動幅、無負荷で連続6万回摺動試験を行い、接触抵抗特性を検討した。その結果、摺動のみによる接触抵抗の変化特性と表面状態は開閉によるものと似ていることが分かった。また、摺動幅がPd接点の接触抵抗特性に強く影響する、つまり摺動幅が小さくなると、接触抵抗の急激な上昇が早く起こる。さらに、摩耗粉末が摩耗痕の周辺に堆積するため、接触抵抗値が大きいと考えられる。 |
| 抄録(英) | Abastract To determine the degradation of contact resistance caused by wiping during relay contact closing,the tests were performed to wipe the Pd contacts at several different amplitudes for 6×10^4 cycles in no-load condition with a step-motor controlle d by a computer.The contact resistance measured in every 10 cycles showed that a similar degradation process to that in contact making and breaking occurred during wiping.Also,the evidence demonstrated that the early contact resistance failure was dependent on the amplitude of wiping,i.e.,the longer the amplitude, the earlier the contact resistance degraded.It was very interestingto note that the contact resistance was lower within the wear track,and higher on the and of wear track,where the wear debris accumulated. |
| キーワード(和) | 接触抵抗 / 接触摺動 / 摩耗 / Pd接点 |
| キーワード(英) | Contact Resistance / Contact wiping / Wear / Pd Contacts |
| 資料番号 | EMD94-27 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD |
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| 開催期間 | 1994/7/25(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electromechanical Devices (EMD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Pd接点の接触抵抗特性に対する閉成時摺動の影響 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Contact Resistance Degradation of Pd Contacts due to |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 接触抵抗 / Contact Resistance |
| キーワード(2)（和/英） | 接触摺動 / Contact wiping |
| キーワード(3)（和/英） | 摩耗 / Wear |
| キーワード(4)（和/英） | Pd接点 / Pd Contacts |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 陳 専科 / Zhuan-ke Chen |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 慶應義塾大学理工学部 Faculty of Science and Technology,Keio University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 柄沢 一成 / Kazunari Karasawa |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 慶應義塾大学理工学部 Faculty of Scicence and Technology,Keio University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 沢 孝一郎 / Koichiro Sawa |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 慶應義塾大学理工学部 Faculty of Scicence and Technology,Keio University |
| 発表年月日 | 1994/7/25 |
| 資料番号 | EMD94-27 |
| 巻番号（vol） | vol.94 |
| 号番号（no） | 172 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |