講演名 1993/5/20
メカノケミカル反応による酸化パラジウム生成現象に関する研究
沢 孝一郎, 山本 健, 新井 啓介,
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抄録(和) パラジウムは耐腐食性に富み,軽負荷用接点材料として重要な材質である.本論文では,パラジウム接点の接触障害の原因になり得ると考えられる,メカノケミカル反応による酸化パラジウム生成現象に対する気圧や湿度の影響を調べ,その発生条件を検討した.その結果,ある程度の気圧以下ではこの現象が起こらなくなることおよび,湿度が低くなるとその限界気圧も低くなることがわかった.また,水蒸気にはメカノケミカル反応による酸化パラジウム生成を抑制する効果があることが明らかになり,その場合の酸化抑制のメカニズムのモデルを提案した.さらに,水蒸気や有機ガスの影響のない精製された雰囲気中で実験を行い,そのモデルの妥当性を検証した.
抄録(英) Palladium is one of the most useful and important materials for low load contacts because of its good propert,against corrosive gases.In this study,influence of atmospheric pressure and humidity on palladium oxide formation caused by mechanochemical reaction which might deteriorate the contact reliability was investigated, and the conditions of the appearance of this phenomenon were determined.It was found that palladium oxide was not formed in the atmospheric pressure lower than a threshold level,which became lower in lower humidity.Aqueous vapour was thought to have an effect to restrain the palladium oxide formation,and an explanatory model for this restraint mechanism was proposed.The proposed model was verified through experiments in purified air where neither aqueous vapour nor organic vapour had any influence.
キーワード(和) メカノケミカル反応 / 酸化パラジウム / 接触抵抗 / 気圧 / 湿度
キーワード(英) Mechanochemical reaction / Palladium oxide / Contact resistance / Atmospheris pressure / Humidity
資料番号 EMD93-8
発行日

研究会情報
研究会 EMD
開催期間 1993/5/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electromechanical Devices (EMD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) メカノケミカル反応による酸化パラジウム生成現象に関する研究
サブタイトル(和)
タイトル(英) Study on Palladium Oxide Formation Caused by Mechanochemical Reaction
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) メカノケミカル反応 / Mechanochemical reaction
キーワード(2)(和/英) 酸化パラジウム / Palladium oxide
キーワード(3)(和/英) 接触抵抗 / Contact resistance
キーワード(4)(和/英) 気圧 / Atmospheris pressure
キーワード(5)(和/英) 湿度 / Humidity
第 1 著者 氏名(和/英) 沢 孝一郎 / Koichiro Sawa
第 1 著者 所属(和/英) 慶応義塾大学理工学部
Faculty of Science and Technology,Keio University
第 2 著者 氏名(和/英) 山本 健 / Takeshi Yamamoto
第 2 著者 所属(和/英) 慶応義塾大学理工学部
Faculty of Science and Technology,Keio University
第 3 著者 氏名(和/英) 新井 啓介 / Keisuke Arai
第 3 著者 所属(和/英) 慶応義塾大学理工学部
Faculty of Science and Technology,Keio University
発表年月日 1993/5/20
資料番号 EMD93-8
巻番号(vol) vol.93
号番号(no) 43
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日