| 講演名 | 1993/9/6 接点の接触抵抗を回復する現象の物理的意味について 松本 伍良, |
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| 抄録(和) | 境界皮膜を有する電気接点を金属-絶縁物-金属の三層構造モデルとして考え、その伝導特性を取り扱った。膜が安定に存在する場合の電圧-電流特性は容量性でその抵抗は高いが、フォーミングと称されるプロセスを経た膜は導電性を示すようになり、その電気伝導度は8桁ほど増加する。この現象の物理的解釈とそのための基礎的な検討、すなわち絶縁物層にイオンを打ち込んだ膜や金属をドープした膜構造をつくり、人為的にフォーミングと同じ現象を生じさせ得ることを実証した実験結果につき述べ、いわゆる"接触抵抗を回復する現象"と呼ばれてきた接点現象に対し、一つの説明の根拠を与えた。 |
| 抄録(英) | Recovery phenomena of the contact resistance in electrical contacts were investigated with the aid of metal-insulator-metal(M- I-M)sandwich structure.Voltagecurrent relations of the M-I-M have a tendency of capacitive,but show a tendency of conductive after the forming process.To elucidate these characteristics,experiments were performed by ion-implanted insulating layer and Au doped layer.These modified formed-layers give us an explanation for the recovery phenomena of the contact resistance. |
| キーワード(和) | 接点 / 接触抵抗 / 回復現象 / 境界皮膜 / 三層構造モデル |
| キーワード(英) | Contact / Contact resistance / Recovery phenomena / Insulating layer / Sandwich structure model |
| 資料番号 | EMD93-48 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD |
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| 開催期間 | 1993/9/6(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electromechanical Devices (EMD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 接点の接触抵抗を回復する現象の物理的意味について |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A Physical Meaning for Recovery Phenomena of Electrical Contact Resistance |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 接点 / Contact |
| キーワード(2)（和/英） | 接触抵抗 / Contact resistance |
| キーワード(3)（和/英） | 回復現象 / Recovery phenomena |
| キーワード(4)（和/英） | 境界皮膜 / Insulating layer |
| キーワード(5)（和/英） | 三層構造モデル / Sandwich structure model |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 松本 伍良 / Goro Matsumoto |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 北海道工業大学 Hokkaido Institute of Technology |
| 発表年月日 | 1993/9/6 |
| 資料番号 | EMD93-48 |
| 巻番号（vol） | vol.93 |
| 号番号（no） | 210 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |