講演名 1996/12/20
パルス電流法によるフリッティング現象の一検討
渡辺 克忠,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) フリッティング現象はR.Holmによってかなり詳しく説明されているが、未だよくわからない点も多い。電気的なノイズの発生原因の一つとしてこの現象の究明は不可欠になっている。本研究では、この現象が接触点に流される電流によるジュール熱によって引き起こされるのか、あるいは、接点間に印加される電圧に支配されるのかについても検討した。ジュール熱による影響を調べる新しい方法として従来の定電流法の他に新しくパルス電流法を考案し測定を試みた。銅酸化皮膜を使って測定した結果、フリッティング電圧は定電流では0.1Vであったが、パルス電流では0.6Vまで上昇し、この現象は熱的要因が大きいことが判明した。
抄録(英) Fritting was explained in detail by R.Holm. However, many factors remain unclear. Determining the causes of this phenomenon is necessary for preventing electrical noises. In this study, we discussed whether the phenomenon is attributable to the Joule heat generated by the current at a contact spot or the voltage applied between contacts. In addition to the conventional constant current method, we attempted a new method that uses a pulse current to check the influence of Joule heat. In our test using a copper oxide film, the fritting voltage was 0.1V at a constant current but 0.6V at a pulse current. Using this test, we determined that the fritting phenomenon is strongly attributable to a thermal factor.
キーワード(和) フリッティング現象 / 銅酸化皮膜 / フリッティング電圧 / 定電流法 / パルス電流法
キーワード(英) Fritting phenomena / copper oxide film / fritting voltage / constant current method / pulse current method
資料番号 EMD96-85
発行日

研究会情報
研究会 EMD
開催期間 1996/12/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electromechanical Devices (EMD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) パルス電流法によるフリッティング現象の一検討
サブタイトル(和)
タイトル(英) A study of Fritting by the Pulse Current Method
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) フリッティング現象 / Fritting phenomena
キーワード(2)(和/英) 銅酸化皮膜 / copper oxide film
キーワード(3)(和/英) フリッティング電圧 / fritting voltage
キーワード(4)(和/英) 定電流法 / constant current method
キーワード(5)(和/英) パルス電流法 / pulse current method
第 1 著者 氏名(和/英) 渡辺 克忠 / Yoshitada WATANABE
第 1 著者 所属(和/英) 工学院大学 工学部 電気工学科
Department of Electrical Engineering, Faculty of Engineering. Kogakuin University
発表年月日 1996/12/20
資料番号 EMD96-85
巻番号(vol) vol.96
号番号(no) 438
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日