講演名 1997/11/21
摺動による接触抵抗上昇のメカニズムの解明 : 低加速電圧SEMによる微量有機物の分析技術
古川 敏之,
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抄録(和) 有害物質であるフロンの全廃の動きに伴い、弊社においても代替洗浄法を確立し、リレーの洗浄を行っている。さらに現在、接点の洗浄を廃止するために、清浄な状態を保持する技術の検討を行っている。この検討の中で未洗浄の接点を用いたリレーは、初期の接点開閉で接触抵抗が上昇する現象を確認している。そこで、低加速電圧でのSEM (走査電子顕微鏡) の2次電子像により接点表面を観察し、原因の調査を行った。その結果、接点上の接触部分に有機物が集中して付着していることが確認され、接点の開閉、摺動動作が接触抵抗の上昇と大きく関係していることがわかった。
抄録(英) There is movement to abolish chlorofluorocarbon that is harmful matter. We abolished chlorofluorocarbon that we had used for cleaning of relay. And We established new cleaning method. We have studied production without cleaning. We understood that contact resistance of relay, have electrical contact without cleaning, ascended by initial make and break. So we observed the electrical contact surface with a secondary electron image of low accelerating voltage SEM. As a result we understood that an organic matter adhered to contact point of the electrical contact. And we understood that make and break of electrical contact was related to an ascent of contact resistance.
キーワード(和) 接触抵抗 / 電気接点 / 走査電子顕微鏡 / 有機物
キーワード(英) contact resistance / electrical contact / SEM / organic matter
資料番号 EMD97-67
発行日

研究会情報
研究会 EMD
開催期間 1997/11/21(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electromechanical Devices (EMD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 摺動による接触抵抗上昇のメカニズムの解明 : 低加速電圧SEMによる微量有機物の分析技術
サブタイトル(和)
タイトル(英) Mechanism of contact resistance ascended by slide : Analytical method of small quantity organic matter by the low accelerating voltage SEM
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 接触抵抗 / contact resistance
キーワード(2)(和/英) 電気接点 / electrical contact
キーワード(3)(和/英) 走査電子顕微鏡 / SEM
キーワード(4)(和/英) 有機物 / organic matter
第 1 著者 氏名(和/英) 古川 敏之 / Toshiyuki FURUKAWA
第 1 著者 所属(和/英) オムロン(株)
OMRON Corporation
発表年月日 1997/11/21
資料番号 EMD97-67
巻番号(vol) vol.97
号番号(no) 395
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日